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發(fā)布時(shí)間:2020-12-11 08:24  
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化學(xué)沉鎳工序中退鍍是什么意思?
現(xiàn)在很多工件都會(huì)選擇化學(xué)沉鎳,那么我們知道在化學(xué)沉鎳施鍍結(jié)束之后必須采取清洗和干燥,目的在于除凈工件表面殘留的化學(xué)鍍液、保持鍍層具有良好的外觀,并且防止在工件表面形成“腐蝕電池”條件,保證鍍層的耐蝕性。除此之外,為了不同的目的和技術(shù)要求還可能進(jìn)行許多種后續(xù)處理,其中包括退鍍。
退鍍是指對(duì)不合格化學(xué)沉鎳鍍層的退除?;瘜W(xué)沉鎳層的退除要比電鍍鎳層的退鍍困難得多,退鍍液特別是對(duì)于高耐蝕化學(xué)沉鎳層更是如此。不合格的化學(xué)沉鎳鍍層應(yīng)在熱處理前就進(jìn)行退除,否則鍍層鈍化后退鍍更困難。退鍍蕞好在化學(xué)沉鎳后,發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品有瑕疵就馬上退鍍,此時(shí)效果蕞好。同時(shí)要求退鍍液必須對(duì)基體無(wú)腐蝕,其次鍍層厚度,退鍍速度,退鍍成本等因素都要考慮。化學(xué)鎳退鍍方法主要有化學(xué)退鍍法和電解退鍍法兩種,具體的選擇取決于工件的不同。
化學(xué)沉鎳工藝的特點(diǎn)
漢銘化學(xué)沉鎳廠家為大家分享化學(xué)沉鎳工藝的特點(diǎn):
化學(xué)沉鎳是為了提高工件表面的耐蝕性和耐磨性。通?;瘜W(xué)沉鎳的工件在未加工時(shí)與空氣接觸,容易在空氣中與氧氣和水發(fā)生氧化反應(yīng)。
只需在化學(xué)沉鎳的工件表面沉積一個(gè)固態(tài)的金屬離子。這可以增加涂層厚度取決于時(shí)間和密度的金屬離子在水溶液中。有了這樣一層鎳層的保護(hù),化學(xué)沉鎳的工件在耐腐蝕和耐磨的同時(shí),還能增加工件的使用壽命。
化學(xué)沉鎳的工藝具有薄膜厚度均勻性,又稱化學(xué)鍍鎳?;瘜W(xué)沉鎳是一種沒(méi)有電流通過(guò)而形成的結(jié)膜,所以由于電流分布不均勻,薄膜厚度不會(huì)不均勻。只要溶液的成分足夠,再加上一定的溫度,工件就可以有均勻的厚度,甚至盲孔、齒孔、溝槽等異型零件都可以達(dá)到同樣的效果。
化學(xué)沉鎳工藝可沉積在各種材料上,如:鋼件、鋁合金、塑料、半導(dǎo)體等材料表面。從而提高材料性能。
化鎳鈀金相比化鎳金,化鎳鈀金(ENEPIG)在鎳和金之間多了一層鈀,在置換金的沉積反應(yīng)中,化學(xué)鍍鈀層會(huì)保護(hù)鎳層,防止它被交置換金過(guò)度腐蝕;鈀在防止出現(xiàn)置換反應(yīng)導(dǎo)致的腐蝕現(xiàn)象的同時(shí),為浸金作好充分準(zhǔn)備。鎳的沉積厚度一般為120~240μin(約3~6μm),鈀的厚度為4~20μin(約0.1~0.5μm);金的沉積厚度一般為1~4μin(0.02~0.1μm)。
優(yōu)點(diǎn):應(yīng)用范圍廣泛,同時(shí)化鎳鈀金相對(duì)沉金,可有效防止黑盤缺陷引起的連接可靠性問(wèn)題。
鍍金和沉金工藝的區(qū)別:
1、沉金較鍍金來(lái)說(shuō)晶體結(jié)構(gòu)更致密,不易產(chǎn)成氧化。
2、隨著電路板加工精度要求越來(lái)越高,線寬、間距已經(jīng)到了0.1mm以下。鍍金則容易產(chǎn)生金絲短路。沉金板只有焊盤上有鎳金,所以不容易產(chǎn)成金絲短路。
3、沉金板只有焊盤上有鎳金,所以線路上的阻焊與銅層的結(jié)合更牢固。工程在作補(bǔ)償時(shí)不會(huì)對(duì)間距產(chǎn)生影響。
4、對(duì)于要求較高的板子,平整度要求要好,一般就采用沉金,沉金一般不會(huì)出現(xiàn)組裝后的黑墊現(xiàn)象。沉金板的平整性與使用壽命較鍍金板要好。
