目前，我國生產系稀土拋光粉的原料有下列幾種：（1）氧化（CeO2），由混合稀土鹽類經分離后所得（w（CeO2）=99%）；（2）混合稀土氫氧化物（RE（OH）3），為稀土精礦（w（REO）≥50%）化學處理后的中間原料（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）；（3）混合氯化稀土（RECl3），從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土（主要含La,Ce,Pr和Nd,w（REO）≥45%,w（CeO2）≥50%）；（4）高品位稀土精礦（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%），有內蒙古包頭混合型稀土精礦，山東微山和四川冕寧的氟碳礦精礦。

原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級系稀土拋光粉產品。主要設備：球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。主要指標：產品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;產品粒度為1.5μm~2.5μm.該產品適合于眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。目前，國內生產的低級系稀土拋光粉的量，約占總產量的90%以上。

稀土拋光粉的應用

　　由于系稀土拋光粉具有較優(yōu)的化學與物理性能，所以在工業(yè)制品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的拋光。

　　高系稀土拋光粉，主要適用于精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優(yōu)良，拋光效果較好，由于價格較高，國內的使用量較少。

在稀土拋光粉的消費中，日本是消費者，每年約生產3550噸~4000噸拋光粉，產值35億~40億日元，還從法國、美國和中國進口部分拋光粉。其中拋光粉消費市場是彩電陰極射線管。二十世紀90年代中期，日本陰極射線管的生產轉向海外，而平面顯示產品產量迅速增加，對基拋光粉的需求量也迅速增加。估計日本在液晶顯示用平面顯示器生產上消費的拋光粉約占其市場的50%.90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產技術和設備向海外轉移，如：日本清美化學從1989年開始在海外生產陰極射線管用基拋光粉。