曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準確性，因此在制作上，需要非常準確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。


感光(曝光)完成后就要進行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過顯影藥將未曝光的地方?jīng)_走，經(jīng)過曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。主要應(yīng)用于電路板線路的蝕刻以及五金標牌、表殼、不銹鋼板、鋁板等金屬材料的酸性和堿性腐蝕中。一般蝕刻液為氯化鐵或者氯化銅，感光蝕刻油墨印刷于金屬表面烘干或自然干燥后，然后曝光顯影，利用蝕刻液腐蝕掉未曝光的部分。


在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡單來說曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。蝕刻后一般都要去掉保護部分的油墨，現(xiàn)在市面上用得比較多的是曝光顯影型感光藍油。感光藍油該如何清洗掉呢，一般都是采用氫氧化na水溶液，氫氧化na水溶液濃度大概是5%，溫度大約在50攝氏度，浸泡3-5分鐘，時間可根據(jù)具體情況加長點。氫氧化na水溶液浸泡后，拿出板材，冷水沖洗，就可以很好地去掉感光蝕刻油墨了。

前階段有個客戶涂上感光油墨曝光后，上面再噴上一層油漆，導(dǎo)致氫氧化na水溶液溶液無法很好的滲透到油墨與金屬標牌的連接處，從而沒辦法快速去墨，建議加高溫度，以及加長浸泡的時間之后也可以很好的去掉感光蝕刻油墨。

顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序，其質(zhì)量的好與壞是整個圖形轉(zhuǎn)移成功與否的重要標志。滲鍍：所謂滲鍍，即是由于干膜與覆銅箔板表面粘結(jié)不牢，使鍍液深入，而造成"負相"部分鍍層變厚及鍍好的錫鉛抗蝕層，給蝕刻帶來問題。