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發(fā)布時間:2020-12-25 11:33  
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蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學(xué)溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
顯影是在硅片表面光刻膠中產(chǎn)生圖形的關(guān)鍵步驟。光刻膠上的可溶解區(qū)域被化學(xué)顯影劑溶解,將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。常見的顯影方法是旋轉(zhuǎn)、噴霧、浸潤,然后顯影。硅片用去離子水沖洗后甩干。
采用相同的步驟對其余信號進行布線。布線次數(shù)取決于電路的復(fù)雜性和你所定義的通用規(guī)則的多少。每完成一類信號后,其余網(wǎng)絡(luò)布線的約束條件就會減少。但隨之而來的是很多信號布線需要手動干預(yù)?,F(xiàn)在的自動布線工具功能非常強大,通??赏瓿?00%的布線。但是當(dāng)自動布線工具未完成全部信號布線時,就需對余下的信號進行手動布線。應(yīng)該采用通用規(guī)則來對信號進行自動布線。通過設(shè)置限制條件和禁止布線區(qū)來限定給定信號所使用的層以及所用到的過孔數(shù)量,布線工具就能按照工程師的設(shè)計思想來自動布線。