一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團隊 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機物

一次可同時分析:23層鍍層,24種元素   厚度檢出限:0.005um

工業(yè)X射線鍍層厚度分析儀以其快速、無損、現(xiàn)場測量等優(yōu)點，已在冶金、建材、地質、環(huán)保、商檢、考古、醫(yī)學等領域得到迅速推廣和應用。標準片應與被測試樣具有相同的覆蓋層和基體材料，但對試樣基材為合金成分的，有些儀器軟件允許標樣基材可與被測試樣基材不同，但前提是標準塊基體材料與試樣基材中的主元素相同。近幾年來X射線熒光儀已在工業(yè)鍍層及涂層厚度測量中應用越來越廣泛。眾所周知，產(chǎn)品和金屬元件表面鍍層或防腐層厚度是與產(chǎn)品質量與性能相關的重要指標。實驗表明使用同位素X射線熒光分析方法，能夠滿足工業(yè)鍍層和涂層厚度的分析要求，并且具有無損、在線、簡便快速、可實現(xiàn)自動控制等特點。

一六儀器 專業(yè)測厚儀 多道脈沖分析采集,先進EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀

應用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領域.EFP算法結合精準定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1～104的原子層或分子層。在此方向上，薄膜具有微觀結構。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的，其他的兩維方向具有宏觀大小。所以，表示薄膜的形狀，一定要用宏觀方法，即采用長、寬、厚的方法。因此，膜厚既是一個宏觀概念，又是微觀上的實體線度。

      由于實際上存在的表面是不平整和連續(xù)的，而且薄膜內部還可能存在著、雜質、晶格缺陷和表面吸附分子等，所以，要嚴格地定義和測量薄膜的厚度實際上是比較困難的。膜厚的定義應根據(jù)測量的方法和目的來決定。  

經(jīng)典模型認為物質的表面并不是一個抽象的幾何概念，而是由剛性球的原子（分子）緊密排列而成，是實際存在的一個物理概念。

形狀膜厚：dT是接近于直觀形式的膜厚，通常以um為單位。dT只與表面原子（分子）有關，并且包含著薄膜內部結構的影響；

質量膜厚：dM反映了薄膜中包含物質的多少，通常以μg/cm2為單位，它消除了薄膜內部結構的影響（如缺陷、、變形等）；

物性膜厚：dP在實際使用上較有用，而且比較容易測量，它與薄膜內部結構和外部結構無直接關系，主要取決于薄膜的性質（如電阻率、透射率等）。

江蘇一六儀器   X熒光光譜測厚儀 優(yōu)點    

X射線熒光能譜儀沒有復雜的分光系統(tǒng)，結構簡單。X射線激發(fā)源可用X射線發(fā)生器，也可用性同位素。能量色散用脈沖幅度分析器。探測器和記錄等與X射線熒光光譜儀相同。

    X射線熒光光譜儀和X射線熒光能譜儀各有優(yōu)缺點。前者分辨率高，對輕、重元素測定的適應性廣。穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、先進的解譜方法和EFP算法結合精準定位及變焦結構設計，解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題。對高低含量的元素測定靈敏度均能滿足要求。后者的X射線探測的幾何效率可提高2～3數(shù)量級，靈敏度高?？梢詫δ芰糠秶軐挼腦射線同時進行能量分辨(定性分析)和定量測定。對于能量小于2萬電子伏特左右的能譜的分辨率差。