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發(fā)布時(shí)間:2021-10-14 14:52  
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曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性,因此在菲林的制作上,需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè),避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。當(dāng)曝光不足時(shí),由于單體聚合不,在顯影過程中,膠膜溶漲變軟,線條不清晰,色澤暗淡,甚至脫膠,在蝕刻過程中膜起翹,滲鍍,甚至脫落;當(dāng)曝光過度時(shí),會(huì)造成難于顯影,膠膜發(fā)脆,留下殘膠等弊病。凹凸面曝光顯影拋光
曝光顯影之影響曝光質(zhì)量的因素有哪些?下面我們就來給給大家詳細(xì)說明:曝光顯影之曝光定位講解曝光顯影之曝光定位介紹:目視定位適用于重氮照相底法。重氮底片呈棕色或橘紅色的半透明狀態(tài),但不透紫外光,透過重氮圖像使底片的焊盤與印制電路板的孔重合對(duì)準(zhǔn),然后貼上膠帶貼牢,即可進(jìn)行曝光。光源的選擇要求是干膜光譜吸收主峰與光源發(fā)射主峰重疊或大部分重疊。曝光時(shí)間的控制曝光時(shí)間是影響干膜圖像非常重要的因素。曝光不足,抗蝕膜聚合不夠,顯影時(shí)膠膜溶脹、變軟,線條不清晰,色澤暗淡,甚至脫膠;曝光過度,將產(chǎn)生顯影困難,膠膜發(fā)脆,余膠等問題。凹凸面曝光顯影拋光