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標(biāo)準(zhǔn)氣體生產(chǎn)廠家服務(wù)至上「安徽強(qiáng)源」

發(fā)布時(shí)間:2021-06-08 06:43  

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一氧化氮的溶解性

一氧化氮的熱導(dǎo)率

溫度(K)    熱導(dǎo)率(×10-4)    溫度(K)    熱導(dǎo)率(×10-4)

100    90    450    364

150    134.5    500    396

一氧化氮的溶解性

一氧化氮微溶于水,和其它一些溶劑.

一氧化氮在100毫升FeSO4溶液中的溶解度為3.4厘米3;在100毫升CS2溶液中的溶解度為3.4厘米3;在100毫升H2SO4中的溶解度為3.4厘米3;在100毫升酒精中的溶解度為26.6厘米3;在100毫升冷升(0℃)中的溶解度為7.34厘米3;在100毫升熱水(60℃)中的溶解度為2.37厘米3.





高純/特種氣體的概念


半導(dǎo)體集成電路制造所需要的高純氣體主要分為兩大類:

1.普通氣體:也叫大宗氣體,主要有:H2 、N2 、O2 、Ar 、He等。

2.特種氣體:主要指各種摻雜用氣體、外延用氣體、離子注入用氣體、刻蝕用氣體等。

半導(dǎo)體制造用氣體按照使用時(shí)的危險(xiǎn)性分類:

1.可燃、助燃、易然易暴氣體:H2 、CH4、H2S、NH3 、SiH4、PH3 、B2H6、SiH2CL3、CLF3、SiHCL3等

2.有毒氣體:AsH3、PH3 、B2H6等

3.助燃?xì)怏w:O2 、N2O、F2 、HF等

4.窒息性氣體:N2 、He 、CO2、Ar等

5.腐蝕性氣體:HCL 、PCL3 、POCL3 、HF、SiF4、CLF3等





標(biāo)準(zhǔn)氣體的開發(fā)過程

標(biāo)準(zhǔn)氣體的開發(fā)過程可分為四個(gè)部分:原料氣的純度分析;原料氣的純度分析。 通過稱量法或分壓法制備; 校準(zhǔn)分析方法,例如氣相色譜法和化學(xué)發(fā)光法; 性能檢查和包裝條件。

原料氣的純度分析原料氣的純度分析是一項(xiàng)基礎(chǔ)研究工作,它直接影響稱量方法的價(jià)值。 原料氣體的分析應(yīng)解決三個(gè)問題,即主體含量,稀釋氣體中要混合的組分的含量以及干擾要混合的組分的含量。 為了在氮?dú)庵兄苽?×106 mol / mol的標(biāo)準(zhǔn)氣體,為了確保1%的不確定性,要求高純度氮?dú)庵械暮啃∮?×10 mol / mol。 這個(gè)要求很嚴(yán)格。 這必然導(dǎo)致對(duì)氣體分析技術(shù)和凈化技術(shù)的研究。 因此,在標(biāo)準(zhǔn)氣體的制備過程中,對(duì)分析技術(shù)和純化技術(shù)的要求很高。