形成微孔鉻的是通過(guò)光亮鎳取得的，即所謂鎳封法(Nickel Seal)。在光亮鎳中加人一些不溶性的非導(dǎo)體顆粒，如硫酸鋇、二氧化硅等，在促進(jìn)劑的作用下，用壓統(tǒng)空氣強(qiáng)烈攪拌鍍液，使固體顆粒均勻地與鎳共沉積。鍍鉻時(shí)，在非導(dǎo)體顆粒上就鍍不上鉻而形成微孔鉻層。這種工藝的關(guān)鍵是如何選擇性能良好的促進(jìn)劑，促進(jìn)固體顆粒能均勻地分布在鎳層中。不溶性非導(dǎo)體顆粒的直徑應(yīng)小于1μm。鎳封層厚度為0.5~1.0μm。

鍍鉻層的摩擦系數(shù)小，特別是干摩擦系數(shù)，在所有的金屬中是的，所以鍍鉻層具有很好的耐磨性。5、鍍鉻層能長(zhǎng)久保持反射能力，在可見光范圍內(nèi)，鉻的反射能力約為65%，介于銀（88%）和鎳（55%）之間，但是鉻不變色，能長(zhǎng)久保持其反射能力而優(yōu)于銀和鎳，所以他的亮度保持長(zhǎng)久。由于鍍鉻層的優(yōu)良性能，人們把它用作防護(hù)一裝飾性鍍層體系的外表層（裝飾鉻）和功能鍍層（硬鉻）兩種。

電鍍鉻鍍液應(yīng)用廣的鍍鉻液是以硫酸根作為催化劑的鍍液，鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡(jiǎn)單，使用方便。鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據(jù)鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）鍍鉻液。低濃度的鍍鉻液電流，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩(wěn)定，導(dǎo)電性好，電解時(shí)只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復(fù)雜件鍍鉻。除這種鍍液外還有一些其它的鍍液，比如添加了加、氧化鎂、硫酸鍶、稀土金屬等的特殊鍍液，還有三價(jià)鉻等。

鍍鎳的應(yīng)用面很廣,可作為防護(hù)裝飾性鍍層,在鋼鐵、鋅壓鑄件、鋁

鍍鎳的應(yīng)用面很廣，可作為防護(hù)裝飾性鍍層，在鋼鐵、鋅壓鑄件、鋁合金及銅合金表面上，保護(hù)基體材料不受腐蝕或起光亮裝飾作用：也常作為其他鍍層的中間鍍層，在其上再鍍一薄層鉻，或鍍一層仿金層，其抗蝕性更好，外觀更美。在功能性應(yīng)用方面，在特殊行業(yè)的零件上鍍鎳約1~3mm厚，可達(dá)到修復(fù)目的。特別是在連續(xù)鑄造結(jié)晶器、電子元件表面的模具、合金的壓鑄模具、形狀復(fù)雜的宇航發(fā)動(dòng)機(jī)部件和微型電子元件的制造等方應(yīng)用越來(lái)越廣泛。