拋光是指利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆?；蚱渌麙伖饨橘|(zhì)對工件表面進(jìn)行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的，有時也用以消除光澤（消光）。通常以拋光輪作為拋光工具。拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成，兩側(cè)用金屬圓板夾緊，其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。

極氧化鋁板化學(xué)拋光中出現(xiàn)的缺陷及其糾正措施是在生產(chǎn)的發(fā)展過程中不斷總結(jié)完善的。白色附著物。該缺陷的形貌為化學(xué)拋光后的鋁材表面上附著有一層白色的沉積物，且分布不均勻，附著物底部的鋁材表面有可能被腐蝕。通常，該缺陷是因?yàn)榛瘜W(xué)拋光槽液中溶鋁量太高所致，如果化學(xué)拋光槽液的相對密度在1.80以上，可以得到進(jìn)一步證實(shí)。則需采取措施調(diào)整槽液中的溶鋁量到正常的范圍內(nèi)。

多晶金剛石拋光液多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。主要應(yīng)用于藍(lán)寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學(xué)晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。氧化硅拋光液氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。