公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

蝕刻工藝通常稱為版

刻蝕（Etch）是按照掩模圖形或設(shè)計要求對半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進行選擇性刻蝕的技術(shù)，它是半導(dǎo)體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻相聯(lián)系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝?？涛g分為干法刻蝕和濕法腐蝕。原位芯片目前掌握多種刻蝕工藝，并會根據(jù)客戶的需求，設(shè)計刻蝕效果好且性價比高的刻蝕解決方案。光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng)，選用方解石是因為其的近紫外線穿透率。

掩膜（MASK）：全稱單片機掩膜，是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機生產(chǎn)的過程中把程序做進去。優(yōu)點是：程序可靠、成本低。缺點：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產(chǎn)，供貨周期長。

石英掩膜版

使用石英玻璃為基板材料，光學(xué)透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整和耐磨，使用壽命長，主要用于掩膜版

蘇達掩膜版

使用蘇打玻璃作為基板材料，光學(xué)透過率較高，熱膨脹率相對高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版