濕式研磨與干法研磨的區(qū)別

濕法研磨與干法研磨的區(qū)別 干法研磨指進(jìn)行研磨作業(yè)時(shí)物料的含水量不超過(guò)4%，而濕法研磨則是將原料懸浮于載體液流中進(jìn)行研磨，適當(dāng)添加分散劑等助劑幫助研磨進(jìn)行。濕法研磨機(jī)時(shí)物料含水量超過(guò)50%時(shí)，可克服粉塵飛揚(yáng)問(wèn)題。在食品加工上，研磨的物料經(jīng)常作為浸出的預(yù)備操作，使組分易于溶出，故頗適于濕式研磨法。但濕法操作一般消耗能量較干法操作的大，同時(shí)設(shè)備的磨損也較嚴(yán)重。機(jī)械干法研磨較難獲取亞微米級(jí)別的粉體，化學(xué)制粉成本高，因此濕法研磨成為制備超細(xì)粉體的一個(gè)重要手段。從實(shí)際應(yīng)用來(lái)看，這兩者之間并沒(méi)有的優(yōu)劣之分，要根據(jù)實(shí)際的產(chǎn)品特點(diǎn)及經(jīng)濟(jì)效益來(lái)選取適當(dāng)?shù)奶幚矸椒ā?/p>

研磨機(jī)變速控制階段的特征

研磨機(jī)變速控制階段的特征 研磨機(jī)是平面研磨處理的主要設(shè)備，在五金制品、藍(lán)寶石襯底、硅片等產(chǎn)品具有重要應(yīng)用意義。在研磨機(jī)整個(gè)工作過(guò)程中有三個(gè)階段，不同階段的速度有所不同。下面就來(lái)簡(jiǎn)單探討這三個(gè)階段的研磨機(jī)速度是怎樣的？ 在開(kāi)始階段，研磨機(jī)應(yīng)該呈升速狀態(tài)，可以通過(guò)人為控制磨具速度從零由慢到快增速。在正式階段，研磨機(jī)應(yīng)該處于恒速旋轉(zhuǎn)。在結(jié)束階段，加速度的變化出現(xiàn)一個(gè)拐點(diǎn)，速度由值慢慢減小到零。

合成鐵盤(pán)的使用特點(diǎn)在平面研磨加工中

合成鐵盤(pán)的使用特點(diǎn) 在平面研磨加工中，研磨拋光機(jī)是非常關(guān)鍵的設(shè)備，目前的研磨拋光設(shè)備有單面研磨拋光機(jī)和雙面研磨拋光機(jī)。不過(guò)高精度的工件除了需要研磨設(shè)備還需要研磨耗材。接下來(lái)我們來(lái)談?wù)劤Ｓ糜诰ゴ帜サ暮铣设F盤(pán)。 合成鐵盤(pán)的主要是由鐵粉與樹(shù)脂合成，其切削力強(qiáng)，無(wú)氣孔，耐磨性好。在研磨加工行業(yè)用于開(kāi)粗，為企業(yè)節(jié)約成本，提高工作效率。合成鐵盤(pán)是不銹鋼、石英玻璃、銅件、氧化鋁、陶瓷產(chǎn)品粗磨中很重要的研磨耗材。

研磨拋光中冷卻研磨盤(pán)有什么意義

研磨拋光中冷卻研磨盤(pán)有什么意義 從事平面研磨加工的朋友都知道在超精密研磨拋光較薄脆零件過(guò)程中，研磨盤(pán)和工件是做相對(duì)摩擦運(yùn)動(dòng)的，研磨盤(pán)與工件的局部接觸區(qū)域往往會(huì)出現(xiàn)高溫，有時(shí)甚至可以達(dá)到幾百度。局部的高溫不但會(huì)零件表面，形成加工變質(zhì)層，而且會(huì)引起零件的局部變形，同時(shí)，平面研磨機(jī)局部高溫區(qū)的熱量還會(huì)以熱傳導(dǎo)的方式傳到整個(gè)研磨盤(pán)，使研磨盤(pán)也會(huì)發(fā)生熱變形，研磨盤(pán)作為研磨加工的磨具，其面型精度能在一定程度上“”到工件表面。 因此，平面研磨機(jī)在進(jìn)行研磨拋光過(guò)程?hào)|研磨盤(pán)自身的熱變形對(duì)工件的面型精度一定會(huì)有影響。而且研磨盤(pán)溫度越高，越不均勻，工件所受的變形影響越大。因此及時(shí)地將局部研磨盤(pán)高溫區(qū)的熱量驅(qū)散，合研磨盤(pán)各部分的溫度比較均勻且處于較低的水平是非常的必要的。