鍍硬鉻廠家介紹鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的來(lái)源。實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變化。例如，當(dāng)溫度在45～50℃，Dk=10A／dm2時(shí)，鉻酐濃度在50～500g／L范圍內(nèi)變化，甚至高達(dá)800g／L，均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為150～400g／L之間。鉻酐的濃度對(duì)鍍液的電導(dǎo)率起決定性作用，鍍液溫度升高，電導(dǎo)率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動(dòng)。因此，單就電導(dǎo)率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時(shí)，由于隨工件帶出損失嚴(yán)重，不僅造成材料的浪費(fèi)，更主要的是會(huì)造成嚴(yán)重的環(huán)境污染。而低濃度鍍液對(duì)雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過(guò)高或過(guò)低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，蕞主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr03：SO42-=(80～100)：1，蕞佳值為100：1。當(dāng)SO42-含量過(guò)高時(shí)，對(duì)膠體膜的溶解作用強(qiáng)，基體露出的面積大，真實(shí)電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻、發(fā)花，特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當(dāng)SO42-含量過(guò)低時(shí)，陰極表面只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區(qū)放電長(zhǎng)大，所以，鍍層發(fā)灰粗糙，光澤性差。

化學(xué)鍍包括鍍鎳、鍍銅、鍍金、鍍錫等很多鍍種，但應(yīng)用范圍相當(dāng)廣的還是化學(xué)鍍鎳。由于化學(xué)鍍鎳層具有很好的均勻性、硬度、耐磨和耐蝕性等綜合物理化學(xué)性能，該項(xiàng)技術(shù)已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用，幾乎難以找到一個(gè)工業(yè)不采用化學(xué)鍍鎳技術(shù)。

電鍍鎳的特點(diǎn)、性能、用途：

電鍍鎳層在空氣中的穩(wěn)定性很高，由于金屬鎳具有很強(qiáng)的鈍化能力，在表面能迅速生成一層極薄的鈍化膜，能抵抗大氣、堿和某些酸的腐蝕。

光亮鎳

鍍光亮鎳有很多優(yōu)點(diǎn)﹐不僅可以省去繁重的拋光工序﹐改善操作條件﹐節(jié)約電鍍和拋光材料﹐還能提高鍍層的硬度﹐便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)﹐但是光亮鍍鎳層中含硫﹐內(nèi)應(yīng)力和脆性較大﹐耐蝕性不如鍍暗鎳層﹐為了克服這些缺點(diǎn)﹐可采用多層鍍鎳工藝﹐使鍍層的機(jī)械性能和耐蝕性得到顯著的改善。

鍍鉻是泛指電鍍鉻

鍍鉻有兩的，一是zhidao裝飾鉻，一是硬鉻。

鍍硬鉻是比較好的一增加表面硬度的方法，但是它的優(yōu)缺點(diǎn)很多，所以好多情況下都沒(méi)采用。

優(yōu)點(diǎn)一，表面光潔度好，優(yōu)點(diǎn)二，不會(huì)生銹，一點(diǎn)銹斑都不會(huì)有；三，鍍的過(guò)程中原零件變形小。四，如果零件尺寸不到位，可以通過(guò)加幾絲鉻來(lái)達(dá)到尺寸（如12樓所說(shuō)的修補(bǔ)，當(dāng)然了，這是優(yōu)點(diǎn)，也是個(gè)缺點(diǎn)，所以要鍍鉻的零回件都要放余量了）。優(yōu)點(diǎn)五，表面比較美觀。等等