鍍膜技術(shù)在防偽技術(shù)中的應(yīng)用 防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

鍍膜技術(shù)在飛機(jī)防護(hù)涂層方面的應(yīng)用 飛機(jī)的鈦合金緊固件，原來采用電鍍方法鍍鎘。 鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用 人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。未來發(fā)展策略1、目前實體經(jīng)濟(jì)走勢整體疲弱，復(fù)蘇充滿不確定性，經(jīng)濟(jì)處于繼續(xù)探底過程，真空鍍膜設(shè)備制造企業(yè)應(yīng)著力進(jìn)行產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)優(yōu)化升級，重質(zhì)量、重服務(wù)明確市場定位，大力研發(fā)擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的新產(chǎn)品新工藝，提高產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)水平。

鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用

      人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

1. 真空

在空間內(nèi)，低于環(huán)境大氣壓力的氣體狀態(tài)。

2. 真空度

表示真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度，通常用壓力值來表示。

3. 真空區(qū)域劃分

低真空 105Pa-102Pa

中真空 102Pa-10-1Pa

高真空 10-1Pa-10-5Pa

超高真空 10-5Pa-10-9Pa

極高真空 <10-9Pa

4. 全壓力

混合氣體中所有組分壓力的綜合。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、分子束外延鍍膜機(jī)和激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。國內(nèi)外研究人員一直致力于開發(fā)取代電鍍的表面防護(hù)技術(shù)的研究,物理氣相沉積(PVD)技術(shù)作為一種環(huán)境友好技術(shù),具有很多其他技術(shù)所不具備的特點,通過控制其工藝參數(shù)可以得到晶粒細(xì)小、厚度均勻、膜基結(jié)合力優(yōu)異的鍍層?；c靶材同在真空腔中。

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理。