您好,歡迎來到易龍商務(wù)網(wǎng)!
發(fā)布時(shí)間:2021-04-21 03:14  
【廣告】







磁控濺射真空鍍膜機(jī)導(dǎo)致不均的因素哪些?專業(yè)從事這方面工作的朋友其實(shí)還是比較的了解的,它主要可以分為以下幾個(gè)因素就是:真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、亞氣。
磁場(chǎng)是正交運(yùn)作的,但你要將磁場(chǎng)強(qiáng)度做到一定均勻是不可能的,一般磁場(chǎng)強(qiáng)的地方,成膜厚度就大,相反就小,所以會(huì)造成膜層厚度的不一致,不過在生產(chǎn)過程中,由于磁場(chǎng)的不均勻?qū)е碌哪硬痪鶆虻那闆r卻不是常見的,為什么呢?

真空鍍膜機(jī)是蒸發(fā)鍍鋁的設(shè)備。成膜速度快,成膜性強(qiáng),色澤鮮艷,不易污染。電鍍?cè)O(shè)備可獲得純度高、膜厚均勻、致密、無廢液和廢水,真空鍍膜機(jī)設(shè)備應(yīng)用廣泛,主要應(yīng)用于汽車反光網(wǎng)、工藝品、首飾、鞋帽、掛鐘、燈具、裝飾等行業(yè)。主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備組成。
因此,排氣系統(tǒng)不僅要在短時(shí)間內(nèi)以低壓保證快速的工作循環(huán),而且還需要快速清除氣體的蒸發(fā)源和蒸發(fā)工件的表面。蒸發(fā)系統(tǒng)包括電氣設(shè)備和加熱蒸發(fā)源。