真空電鍍?cè)O(shè)備膜厚的不均勻問題

無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點(diǎn)位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍?cè)O(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠(yuǎn)離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長(zhǎng)期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對(duì)真空室的結(jié)構(gòu)和蒸發(fā)源的恰當(dāng)選擇可以使這些影響化。

在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供高性能的小規(guī)格、簡(jiǎn)便型光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，同時(shí)，用戶對(duì)性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化化等方面。

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應(yīng)用小規(guī)格設(shè)備進(jìn)行光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問題。因此，選用現(xiàn)代化光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的關(guān)鍵取決于對(duì)以下因素的認(rèn)真考慮：對(duì)鍍膜產(chǎn)品的預(yù)期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術(shù)因素。

鍍膜機(jī)鍍膜工藝的時(shí)候該如何調(diào)試和掌控均勻性

從開機(jī)，到鍍膜整套流程完成，都離不開調(diào)試機(jī)器機(jī)這一環(huán)節(jié)，因此想要成為一位專業(yè)的鍍膜技術(shù)人員，調(diào)試鍍膜機(jī)方法和技巧是必須要掌握的要領(lǐng)。特別是新員工，剛上手鍍膜工藝的時(shí)候，經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)鍍膜機(jī)調(diào)試不達(dá)標(biāo)，鍍膜均勻性把控不好，因此而煩惱。下面至成真空小編為大家講解一下，關(guān)于真空鍍膜機(jī)該如何進(jìn)行時(shí)調(diào)試和鍍膜的時(shí)候如何把控好鍍膜均勻性，才能順利完成鍍膜整個(gè)流程。

首先需要先測(cè)試設(shè)備的抽真空速度，在測(cè)試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；然后再測(cè)試設(shè)備的密封性能，就是抽到極限后保壓1小時(shí)看壓降是否達(dá)標(biāo)，同時(shí)排除細(xì)小的漏孔；第三步，產(chǎn)品試作，檢驗(yàn)其他的性能，比如傳動(dòng)、加熱、絕緣等等；如果有工藝保證的話就繼續(xù)打樣并作測(cè)試；并且所有的測(cè)試應(yīng)作記錄，并有記錄人簽字以及有使用部門或工程部門的人確認(rèn)簽字即可。對(duì)于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。

鍍膜涂裝設(shè)備對(duì)現(xiàn)代化的重要性

無油真空西永是使用分子泵和低溫泵作為主泵的，其特點(diǎn)主要集中在能夠連續(xù)大量抽氣，可以獲得清潔無油的超高真空。并且該系統(tǒng)啟動(dòng)時(shí)間快，停泵時(shí)間短。但是該系統(tǒng)抽重氣體比抽輕氣體快，對(duì)水蒸氣類型的的抽速比較慢，當(dāng)氣體大量經(jīng)過泵的時(shí)候，抽速就會(huì)下降的很快。 這兩種真空鍍膜設(shè)備各有各的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)，使用者應(yīng)該考慮自己的需求來進(jìn)行選購。