微弧氧化過程

       在微弧氧化處理過程中，待氧化試樣與電源正極相連，作為陽極浸入電解液之中，不銹鋼電解槽作為陰極與電源負極相連。在開通電源后，正脈沖電壓快速升高，電流迅速下降，作為陽極的待氧化試樣開始進行陽極氧化,產(chǎn)生大量微小氣泡，同時在試樣表面形成了一層極薄的鈍化膜。溶液冷卻和攪拌系統(tǒng)在微弧氧化過程中，會在工件表面產(chǎn)生瞬時高溫高壓，為了及時能帶走產(chǎn)生的熱量及平衡穩(wěn)定氧化槽的溫度，必須配備外循環(huán)和熱交換方式，溶液的循環(huán)同時達到攪拌和冷卻槽液的目的。當外加脈沖電壓超過一定值時，材料表面出現(xiàn)一層極細微均勻的放電火花，這種微區(qū)火花放電現(xiàn)象在試樣表面不同位置出現(xiàn)，在待微弧氧化表面原位生長陶瓷膜層，以達到強化材料表面的目的。微弧氧化設(shè)備、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、鋁合金微弧氧化、微弧噴涂

微弧氧化膜的性能特點

1. 硬度極高，可達1500-2000HV.比一般陽極氧化或電鍍處理高許多；

2. 耐磨性；

3. 耐腐蝕性好，耐中性鹽霧可達2000h以上；

4. 絕緣性能良好；

5. 附著力良好，將工件加熱至300℃，立即浸入冷水中，反復(fù)數(shù)次都未發(fā)現(xiàn)氧化膜掉落。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源的好處、微弧氧化廠家

微弧氧化技術(shù)

       微弧氧化又稱微等離子體氧化、陽極火花沉積 或火花放電陽極氧化,，還有人稱之為等離子體增強電化學(xué)表面陶瓷化  。氧化膜的硬度一般能達到600-1500HV(膜層厚度20-50μm），耐磨性能優(yōu)于硬質(zhì)陽極化膜及電鍍硬鉻。該技術(shù)的基本原理及特點是：在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上，利用弧光放電增強并ji活在陽極上發(fā)生的反應(yīng)，從而在以鋁、鈦、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成的強化陶瓷膜的方法。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化圖片、微弧氧化技術(shù)設(shè)備