鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質之選！

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鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數

1. 光學系統(tǒng)：中階梯二維分光光學系統(tǒng)，焦距400mm

2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm（200nm處）

3. 光柵規(guī)格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器，小巧有效

5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限

6. 自動匹配調節(jié)

7. 全組裝式炬管，降低了維護成本

8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能

9. 實驗數據穩(wěn)定性良好：重復性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩(wěn)定性：RSD

≤2.0%（大于3小時）

鋼研納克Plasma 1500單道掃描ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。

1 單道掃描ICP光譜儀采用大面積高刻線密度平面全息光柵，Czerny-Turner結構光學系統(tǒng)，通光量大，分辨率高。

2 雙光柵設計，整個波長分布范圍內均具有極高光譜分辨率，國產ICP光譜儀設計。

3 有效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器，固態(tài)光源ICP光譜儀體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

4 雙通道高靈敏PMT檢測器，寬動態(tài)范圍信號處理技術，具有優(yōu)異的檢測能力。紫外光譜范圍內自動切換使用紫外PMT。

5 功能強大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

由鋼研納克承擔的國家重大科學儀器設備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”取得重要進展。本專項開發(fā)內容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質譜儀。目前二維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產品樣機將于年內完成；ICP質譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調試，采集到正確的譜圖，這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關鍵、難點技術已經實現(xiàn)原理攻克。為高質量、按期完成項目任務和本單位新產品開發(fā)任務奠定了堅實的基礎。