不銹鋼件等離子拋光加工

   1.加工區(qū):不銹鋼件的加工區(qū)域應(yīng)相對固定。不銹鋼件加工區(qū)的平臺應(yīng)采取隔離措施,如鋪上橡膠墊等。不銹鋼件加工區(qū)的定置管理、文明生產(chǎn)應(yīng)加強,以避免對不銹鋼件的損傷與污染。

   2.下料:不銹鋼件的下料采用剪切或等離子切割、鋸切等。

   a.剪切:剪切時,應(yīng)與送進支架隔離,落料斗也應(yīng)鋪以橡膠墊,避免劃傷。

   b.等離子切割:等離子切割后,割渣應(yīng)清理干凈。批量切割時,對于已完成的零件應(yīng)及時清理出現(xiàn)場,以避免割渣對工件的玷污。

   c.鋸切下料:鋸切下料時,夾緊應(yīng)加以膠皮保護,鋸切后應(yīng)清理工件上的油污、殘渣等。

等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，但是在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正點的離子，當這些離子達到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當這些等離子和要拋光的物體摩擦時，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。

對于手工難以處理、可達性差的復雜內(nèi)腔部位，尤其是交叉孔相貫線的毛刺，利用電化學去毛刺有著明顯的優(yōu)勢。電化學去毛刺對加工棱邊可取得較高的邊緣均一性和良好的表面質(zhì)量，具有去除毛刺效果好、安全，環(huán)保等優(yōu)點，去毛刺效果好，一般情況和傳統(tǒng)工藝相比，效率可提高10-20倍以上。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學物質(zhì)。進一步研發(fā)出納米拋光液配方，在拋光液成本上進一步降低，使拋光效果進一步優(yōu)化

等其他要求精度高標準的行業(yè)

如此精湛的技術(shù)拋光后的效果如何呢?

經(jīng)過多方對比之后發(fā)現(xiàn)，突破后的技術(shù)拋光出的產(chǎn)品就好像一面鏡子，表面光亮，無暇，光滑，和電鍍后的效果幾乎無異。

等離子拋光工藝還有退掉鍍膜的功效，我們只要通過特定的拋光劑,在短的時間（30～180s）內(nèi)就可以完全脫掉鍍膜。這樣大大節(jié)省脫膜時間。對于那些表面真空鍍氮化碳或氮化鉻的產(chǎn)品,脫膜相對較難,通過等離子拋光也能去完全將表面膜層去除干凈,但是拋光時間需要延長一倍以上。不銹鋼等離子拋光加工

不銹鋼因其耐腐蝕、性強等優(yōu)點，廣泛用于各類金屬制品。而不銹鋼保溫杯內(nèi)膽、精密管件、模具或傳動部件等產(chǎn)品，需要對內(nèi)孔或內(nèi)型腔進行鏡面拋光。