鍍膜技術在集成電路制造中的應用 晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及其合金）等多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發(fā)金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術?？梢姎庀喑练e術制備集成電路的核心技術之一。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種，它們主要起提高膜層的結合力，降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度，保護金屬膜層的作用。

真空鍍膜設備若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質量。所以應當注意以下幾點：

真空鍍膜設備使用后，必須要定期對設備進行清潔維護；保證設施設備及操作環(huán)境清潔；

規(guī)范操作人員及操作要求；源材料必須要符合必要的純度要求；降低真空鍍膜設備室內空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。

真空鍍膜設備對底涂層有何要求。

1、對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能，熱膨脹系數相差小，不起反應，流平性能好。

2、具有良好的真空性能。

3、成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

4、與面涂層有良好的相溶性。

5、施涂性能良好。流平性能良好，有適當的黏度、固化時間短。

真空鍍膜機的運行狀況會直接影響鍍膜成品的質量，為了更好的運行，要對真空鍍膜機進行維護和保養(yǎng)。

設備的日常維護保養(yǎng)是在生產中發(fā)現不正?，F象，盡快解決。發(fā)現機械泵油減少要添加，不要認為油要定期才更換，否者到了維護時，泵的轉子可能會磨損嚴重。

定期維護保養(yǎng)，把日常維護保養(yǎng)和定期維護保養(yǎng)都做好了，不僅延長了設備的使用壽命，還減少了運行故障，提高生產效率。