手機納米膜真空鍍膜與電鍍的區(qū)別

真空鍍膜又稱真空離子鍍，是不采用溶液或電能液而制備薄膜的一種全新的干式鍍膜方法。過去物體表面鍍制薄膜作為物體表面改性的手段是采用濕式的電鍍發(fā)或化學(xué)鍍法。

在電鍍法中，被電解的離子鍍到作為電解液中另一個電機的被鍍件表面上而成膜，因此，其基體必須是良導(dǎo)體，度也難以控制。

(1)水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對于閃銀、魔幻藍、裂紋、水滴銀等，五花八門的七彩色就無能為力了;而真空電鍍可以解決七彩色的問題，可鍍金色、紅色、藍色等各種顏色。

(2)真空鍍膜的附著力(附著強度)好，膜層十分牢固，不易脫落。

(3)真空鍍膜的膜材和基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。

(4)電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價鉻”，這是非環(huán)保材料，無法出口歐美市場，而真空電鍍的鍍層材質(zhì)為鋁，安全環(huán)保，能達到歐美市場的環(huán)保監(jiān)測指標(biāo)。

蒸發(fā)真空鍍膜機的原理及性能,你了解多少?

電鍍設(shè)備真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。排氣系統(tǒng)一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。目前所用的蒸發(fā)源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應(yīng)加熱、電弧加熱和激光加熱等多種形式。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。

為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運動方式。蒸發(fā)鍍膜機主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備四部分組成。

真空鍍膜設(shè)備工件是怎么去除氣的呢？

真空鍍膜設(shè)備如何操作,它的工件該怎么除氣

真空鍍膜產(chǎn)品普及到生活方方面面，真空鍍膜設(shè)備也就要求越來越高，很早以前物品鍍膜，只是為了耐用，防老化，隨著時間的推移，鍍膜現(xiàn)在不僅僅只是耐用，更多外形上的美觀。因此現(xiàn)在膜層已經(jīng)花樣百出，顏色各不相同，甚至不同行業(yè)的，鍍膜設(shè)備的型號和功能也不盡相同，自然鍍膜工程師技術(shù)要求更高。然后鍍膜設(shè)備在運行的過程中，鍍膜工程師總會遇到工件除氣的問題，下面至成真空小編為大家講解一下真空鍍膜設(shè)備的操作方法及工件該如何去除氣。

真空鍍膜設(shè)備操作，大家剛開始接觸的時候，先記住步驟，后面再慢慢實踐，我們在準(zhǔn)備操作鍍膜設(shè)備的時候，首先要檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置，然后打開總電源開關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電，再接著低壓閥拉出，開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。這時安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物，接著落下鐘罩，啟動真空鍍膜設(shè)備抽真空機械泵，后面就要開復(fù)合真空計電源（復(fù)合真空計型號：Fzh-1A)。設(shè)備當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。繼續(xù)開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。低壓閥拉出時，立式單開門鍍膜機重復(fù)一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。