真空鍍膜機

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。設(shè)備的維護要有日常維護和定期維護1,日常維護就是在當(dāng)天生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)設(shè)備有不良跡象，就馬上解決。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

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真空鍍膜設(shè)備真空泵的選擇

正確地組合真空泵。在離子鍍技術(shù)中，由于給工件施加負(fù)偏壓，可以形成“偽擴散層”、細(xì)化膜層組織，因此，可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。由于真空泵有選擇性抽氣，因而，有時選用一種泵不能滿足抽氣要求，需要幾種泵組合起來，互相補充才能滿足抽氣要求。另外，有的真空泵不能在大氣壓下工作，需要預(yù)真空;有的真空泵出口壓強低于大氣壓，需要前級泵，故都需要把泵組合起來使用。

正確地選擇真空泵的工作點。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。每種泵都有一定的工作壓強范圍，如：2BV系列水環(huán)真空泵工作壓強范圍760mmHg~25mmHg(絕壓)，在這樣寬壓強范圍內(nèi)，泵的抽速隨壓強而變化(詳細(xì)變化情況參照泵的性能曲線)，其穩(wěn)定的工作壓強范圍為760~60mmHg。因而，泵的工作點應(yīng)該選在這個范圍之內(nèi)較為適宜，而不能讓它在25~30mmHg下長期工作。

真空泵排出來的油蒸氣對環(huán)境的影響如何。如果環(huán)境不允許有污染，可以選無油真空泵，或者把油蒸氣排到室外。

真空泵的工作壓強應(yīng)該滿足真空設(shè)備的極限真空及工作壓強要求。如：某真空干燥工藝要求10mmHg的工作真空度，選用的真空泵的極限真空度至少要2mmHg，1好能達(dá)到1mmHg。通常選擇泵的極限真空度要高于真空設(shè)備工作真空度半個到一個數(shù)量級。

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現(xiàn)代真空鍍膜機膜厚測量及監(jiān)控方法

涂層的鍍膜機控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法，該儀器可以直接驅(qū)動的蒸發(fā)源，通過PID控制回路傳動擋板，使蒸發(fā)率。做好這一點可少走好多彎路，其次是要善于分析現(xiàn)象，不能盲目的拆卸。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準(zhǔn)確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。

此外，雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中，鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區(qū)域，導(dǎo)致薄膜的重大錯誤。 光學(xué)監(jiān)測是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式，鍍膜機這是因為它能準(zhǔn)確控制膜的厚度(如果使用得當(dāng))。

精度的提高，由于許多因素，但根本的原因是光學(xué)厚度的監(jiān)測。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。optimalswa-i-05單一波長的光學(xué)監(jiān)測系統(tǒng)，是間接控制，鍍膜機先進的光學(xué)監(jiān)測軟件結(jié)合王博士的發(fā)展，有效地改善和靈敏度變化的光反應(yīng)的膜厚度的減少終的誤差的理論方法，提供監(jiān)測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。