多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘，可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產品、器械、儀器儀表等領域。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備在真空條件下采用物理氣相沉積技術，在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術、柱形靶及磁控油射離子鍍技術有機結合在一起，可單獨使用或同時使用，制取含有連續(xù)過渡層的各種膜層。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備制造簡單，使用方便，運行成本低無污染，經濟效益高。其雙真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大節(jié)省投資。

PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟及原理

廠家在采購PVD真空鍍膜機時，商家都會培訓PVD真空鍍膜機的相關知識，如鍍膜技術工藝步驟、原理、保養(yǎng)維護方法，機器的運行注意事項等等，今天至成小編為大家介紹一下PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟和原理。

PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟，分為以下四個步驟：

（1）清洗工件：接通直流電源，Ar氣進行輝光放電為Ar離子，Ar離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

（2）鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

（3）鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞以及高壓電場后，高速沖向工件；

（4）鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

如果是鍍離子鍍時，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能，高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。

光學鍍膜技術在過去幾十年實現了飛快的發(fā)展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術。近年來在這些沉積技術和裝備領域的主要技術有以下三點：

一、漸變折射率結構薄膜技術與裝備：

漸變折射率結構薄膜技術與裝備:已經有大量研究工作已經證實Rugate無界面型薄膜結構和準Rugate多種折射率薄膜結構通過加強調制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設計出非常復雜的光譜性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應，如電磁波在界面上比薄膜內部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學穩(wěn)定性。

二、磁控濺射光學鍍膜系統(tǒng)

以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術及裝備在精密光學領域和消費光電子薄膜領域占據越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單，粒子能量高，獲得的薄膜結構致密穩(wěn)定。

三、間歇式直接光控：

間歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統(tǒng)為代表，光學鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統(tǒng)，對鍍膜過程產品片實現直接監(jiān)控。相對于間接光控和晶控系統(tǒng)，間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實際產品上的薄膜厚度分布誤差，可以進一步提高產品良率并減少了工藝調試時間。