對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1～0.2電子伏。

蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。打開出口凡而后，關(guān)緊循環(huán)閥，再關(guān)緊排氣閥，后看加藥槽內(nèi)藥液剩下少許再關(guān)緊加藥閥，完成加藥過程度使過濾機(jī)正常過濾。③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。

離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺負(fù)電壓加速打到基片表面。工作前檢查模具固定情況、安全裝置，一切正常后方能試車,慢車運(yùn)轉(zhuǎn)一周后，再開車空轉(zhuǎn)2-3min，檢查設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)和潤滑情況正常以后，方可進(jìn)行工作。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和亞離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。

手機(jī)指環(huán)扣的產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、可多次重復(fù)使用，拿下再貼，臟了可水洗晾干再用；

2、手機(jī)、平板電腦等類似的數(shù)碼設(shè)備及產(chǎn)品均可用；

3、指環(huán)360度隨意旋轉(zhuǎn)角度，垂直方向180°，操作方便；

4、納米膠貼，環(huán)保實(shí)用，不留殘膠；

5、防摔、防盜、防搶；

6、掌上可做防摔扣，桌上可做支撐架；

7、采用新彩印技術(shù)，圖案美觀，色彩逼真，長期使用，依舊亮麗如新；

8、 人性化設(shè)計(jì)：指環(huán)扣在不使用時(shí)，可將指環(huán)折疊，不影響手機(jī)的美觀和正常使用。