對于高拋光粉來講，氧化的品位越高，拋光能力越大，使用壽命也增加，特別是硬質玻璃長時間循環(huán)拋光時（石英、光學鏡頭等），以使用高品位的拋光粉為宜。低拋光粉一般含有50%左右的CeO2,其余50%為La2O3?SO3,Nd2O3?SO3,Pr6O11?SO3等堿性鹽或LaOF、NdOF、PrOF等堿性氟化物，此類拋光粉特點是成本低及初始拋光能力與高拋光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用于平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高拋光粉低。






目前，我國生產系稀土拋光粉的原料有下列幾種：（1）氧化（CeO2），由混合稀土鹽類經分離后所得（w（CeO2）=99%）；（2）混合稀土氫氧化物（RE（OH）3），為稀土精礦（w（REO）≥50%）化學處理后的中間原料（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）；（3）混合氯化稀土（RECl3），從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土（主要含La,Ce,Pr和Nd,w（REO）≥45%,w（CeO2）≥50%）；（4）高品位稀土精礦（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%），有內蒙古包頭混合型稀土精礦，山東微山和四川冕寧的氟碳礦精礦。

原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級系稀土拋光粉產品。主要設備：球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。主要指標：產品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;產品粒度為1.5μm~2.5μm.該產品適合于眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。目前，國內生產的低級系稀土拋光粉的量，約占總產量的90%以上。

　中系稀土拋光粉，主要適用于光學儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高粉比較，可使拋光粉的液體濃度降低11%,拋光速率提高35%,制品的光潔度可提高一級，拋光粉的使用壽命可提高30%.目前國內使用這種拋光粉的用量尚少，有待于今后繼續(xù)開發(fā)新用途。

　　低系稀土拋光粉，如771型適用于光學眼鏡片及金屬制品的高速拋光；797型和C-1型適用于電視機顯象管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光；H-500型和877型適用于電視機顯象管的拋光。此外，其它拋光粉用于對光學儀器，攝像機和照像機鏡頭等的拋光，這類拋光粉國內用量，約占國內總用量85%以上。