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發(fā)布時間:2021-01-20 02:42  
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真空電鍍設(shè)備對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力,真空電鍍設(shè)備熱膨脹系數(shù)相差小,不起反應(yīng),流平性能好。
真空電鍍設(shè)備具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。真空電鍍設(shè)備成膜性能好,真空電鍍設(shè)備涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。真空電鍍設(shè)備與面涂層有良好的相溶性。真空電鍍設(shè)備由于鍍膜層極薄有孔隙,要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。
真空電鍍主要包括:真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是采用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點,但是價格也較高,可以進(jìn)行操作的金屬類型較少,一般用來作較好產(chǎn)品的功能性鍍層,例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。常見的塑膠產(chǎn)品電鍍工藝有兩種:水電鍍和真空離子鍍.