平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)的差別

平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)的差別論 平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)都是表面處理行業(yè)常用到的設(shè)備，雖然這兩者都是適用于平面的工件，但還是有很多不同的，接下來(lái)就從以下幾個(gè)方面來(lái)闡述它們之間的差別。 首先是用途上的差別，平面研磨機(jī)主要用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。而平面拋光機(jī)是處理平面工件的塌邊現(xiàn)象，平滑，斑點(diǎn)，祛除工件表面的劃痕，完成超精密加工使工件表面光滑以達(dá)到鏡面效果。 其次是工作原理的差別，平面研磨機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng)，修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對(duì)工件施壓，工件與研磨盤作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來(lái)達(dá)到研磨拋光目的。而平面拋光機(jī)是通過(guò)發(fā)動(dòng)機(jī)帶動(dòng)磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)，并和在磨盤上自轉(zhuǎn)的工件產(chǎn)生摩擦，運(yùn)用摩擦產(chǎn)生切削力，將工件表面凹凸不平的地方磨平，來(lái)達(dá)到拋光目的。 很多對(duì)平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)分不清的朋友看完這篇文章應(yīng)該有所了解，明白這兩者的區(qū)別有哪些。平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)是表面處理的美化師，為我們呈現(xiàn)眾多不同的表面美觀的工件。

平面研磨機(jī)需要的設(shè)備有哪些

平面研磨機(jī)需要的設(shè)備有哪些 研磨機(jī)主機(jī)采用調(diào)速電機(jī)驅(qū)動(dòng)，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動(dòng)、軟停止，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)。通過(guò)上、下研磨盤、太陽(yáng)輪、游星輪在加工時(shí)形成四個(gè)方向、速度相互協(xié)調(diào)的研磨運(yùn)動(dòng)，達(dá)到上下表面同時(shí)研磨的運(yùn)作。下研磨盤可升降，方便工件裝卸。氣動(dòng)太陽(yáng)輪變向裝置，控制工件兩面研磨精度和速度。隨機(jī)配有修正輪，用于修正上下研磨盤的平行誤差。 1、磨盤：如遇到較軟的工件材料時(shí)，比如說(shuō)研磨光學(xué)玻璃這種材質(zhì)的工件，我們可以采用半軟質(zhì)的磨盤（比如錫盤）或者軟質(zhì)的磨盤（比如瀝青盤）等，使用這類研磨盤的缺點(diǎn)是磨盤比較容易保持平面度，所以會(huì)對(duì)加工工件的平面度產(chǎn)生一定的影響，而優(yōu)點(diǎn)是研磨出的工件表面變質(zhì)層較小，且表面粗糙度也小。要想獲取較高的研磨表面質(zhì)量，需選用正確且適合的磨盤。 2、磨粒：它主要是按照硬度分為兩類（硬磨粒和軟磨粒），選用研磨時(shí)用到的磨粒具備功能體現(xiàn)為形狀、尺寸均勻一致；能適當(dāng)?shù)钠扑?，使切刃鋒利；磨粒的熔點(diǎn)要比工件熔點(diǎn)高；磨粒在加工也中易分散等。 3、加工液：研磨拋光加工液通常由基液（水性或油性）、磨粒、添加劑三部分組成，作用是供給磨粒、排屑、冷卻和潤(rùn)滑。對(duì)加工液的要求如下： 1）能夠有效散熱，以免研具和工件表面熱變形； 2）不可污染工件的； 3）粘性低的，可提高磨粒流動(dòng)性； 4）化學(xué)物理性能穩(wěn)定的，不會(huì)因放置或者溫升而分解變質(zhì)； 5）能夠較好地分散磨粒的。 在平面研磨機(jī)研磨拋光時(shí)，會(huì)伴有發(fā)熱現(xiàn)象，除了工件和研具因溫度上升而發(fā)生形變難以進(jìn)行高精度研磨外，在局部的磨粒作用點(diǎn)上也會(huì)產(chǎn)生相當(dāng)高的溫度，使加工變質(zhì)層深度增加。而適當(dāng)?shù)毓┙o加工液，可以有效保證研具有良好的耐磨性工件的形狀精度及較小的加工變質(zhì)層。添加劑的作用是放置或延緩磨料沉淀，并對(duì)工件發(fā)揮化學(xué)作用以提高研磨拋光加工效率和質(zhì)量。

平面研磨設(shè)備使用時(shí)三個(gè)關(guān)鍵要素

平面研磨設(shè)備使用時(shí)三個(gè)關(guān)鍵要素 一、研磨設(shè)備 在表面處理中，常用的研磨設(shè)備有平面研磨機(jī)、雙面研磨機(jī)、平面拋光機(jī)、鏡面拋光機(jī)等，其中又以平面研磨機(jī)應(yīng)用廣。平面研磨機(jī)操作方便，用于各種硬脆材料小小尺寸的批量單平面研磨加工；平面拋光機(jī)用于各種硬脆材料的表面拋光加工；鏡面拋光機(jī)則是將硬脆材料的表面加工到鏡面效果。 二、加工工件 不同材質(zhì)的零件、不同規(guī)格的零件、不同要求的零件，也就要求搭配不同的研磨設(shè)備與研磨介質(zhì)。打個(gè)比方，研磨鋁合金平面表面需要使用平面研磨機(jī)，配合使用含有棕剛玉的研磨液、輔以適當(dāng)重量的壓重塊，以粗磨、中磨、精磨的方式進(jìn)行精密研磨。 三、研磨介質(zhì) 研磨介質(zhì)包括研磨石、拋光石、研磨劑、光澤劑等研磨拋光材料，每種材料都有自己的應(yīng)用范圍，如塑膠研磨石用于材質(zhì)較軟的材料，如鋁、鋅、銅、塑料等；陶瓷類研磨石用于材質(zhì)較硬的材料，如鐵、不銹鋼、白鐵、鋼材等；拋光材質(zhì)為鐵的零件，需要用到鐵光澤劑，拋光材質(zhì)為銅的零件，需要用到銅光澤劑，手工具切削劑用于各類扳手、套筒、批咀去黑膜、去氧化皮，如果用于其他零件，將可能會(huì)腐蝕、破壞零件。

如何改善平面研磨機(jī)的熱變形現(xiàn)象

如何改善平面研磨機(jī)的熱變形現(xiàn)象 如何減少熱變形對(duì)平面研磨機(jī)在加工工件精度方面的影響，需要在平面研磨機(jī)設(shè)備上采用各種熱自動(dòng)補(bǔ)償?shù)姆椒▉?lái)改善工藝系統(tǒng)，下面就來(lái)具體說(shuō)說(shuō)其中的方法。 在解決工件的兩端面磨主軸熱伸長(zhǎng)的問(wèn)題的時(shí)候，采用的解決辦法是除了改善主軸軸承的潤(rùn)滑的方面之外，還會(huì)采用熱補(bǔ)償?shù)姆椒?，達(dá)到平衡的要求，在當(dāng)主軸由于軸承的發(fā)熱而出現(xiàn)變形伸長(zhǎng)的時(shí)候，自動(dòng)補(bǔ)償主軸的向前的熱變形，達(dá)到消除平面研磨機(jī)主軸的熱變形的加工精度的影響。 在設(shè)備的結(jié)構(gòu)上，還有其他的達(dá)到熱均衡的方法，主要是采用熱空氣空氣來(lái)加熱溫升，以達(dá)到均衡溫升，這種能夠有效降低立柱的彎曲變形。 這種方法被加工工件的不平度是可以大大的降低，由于設(shè)備的原因，設(shè)備上部分的熱量會(huì)比較大，目前會(huì)采用熱管的裝置來(lái)降低設(shè)備的熱變形，效果比較明顯。 縮短啟動(dòng)至達(dá)到一個(gè)熱平衡的這個(gè)時(shí)間，是比較有利于提高生產(chǎn)率的。主要有兩種方法，在加工工件之前需要是平面研磨機(jī)設(shè)備能夠迅速的達(dá)到一個(gè)熱平衡的狀態(tài)，然后是換成工作轉(zhuǎn)速進(jìn)行加工，另外一種方法。是采用設(shè)備適當(dāng)部位人工設(shè)備熱源，促進(jìn)其達(dá)到熱平衡，在設(shè)備不進(jìn)行工作的時(shí)候，保持設(shè)備能夠加工到工作的狀態(tài)的溫度，從而是設(shè)備的熱變形能夠減小到一半。