瓷磚真空鍍膜設備

經瓷磚真空鍍膜設備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數大大提高，可以生產仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層。瓷磚真空鍍膜設備主要用于瓷磚、瓷片、陶瓷磚等離子鍍膜。該系列設備主要配置為陰極電弧蒸發(fā)源，也有配偏壓電源，也有配磁控濺射靶。設備特點：配強大抽氣系統(tǒng)，抽氣快，裝載量大，產能高，生產成本低。可以生產仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層；采用貼花紙和涂覆水溶性涂料遮擋技術可以得到各種彩色花紋圖案。經瓷磚真空鍍膜設備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數大大提高。

五金首飾真空鍍膜機

集成了直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)技術，結合線性電離源和脈沖偏壓涂層薄的沉積顆粒。各種膜性能的改善，能大衣合金薄膜，復合膜，多層復合膜的金屬表面上以及非金屬。金首飾真空鍍膜機集成了直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)技術，結合線性電離源和脈沖偏壓涂層薄的沉積顆粒。各種膜性能的改善，能大衣合金薄膜，復合膜，多層復合膜的金屬表面上以及非金屬。經過多年專門的研發(fā)我們的工程師，通過獨特的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，我們開發(fā)了一套計算機自動控制系統(tǒng)使涂膜附著力密度以及復雜的一致性好，解決手工操作的復雜性，膜的顏色不一致等問題。

真空鍍膜機技術中的磁控濺射鍍膜優(yōu)勢所在鍍膜技能商品技能特色

據調查顯示，對于沉積速率，真空鍍膜機技術中的磁控濺射鍍膜運用效果很好。有項研究就是對平衡磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜進行各種對比。在這兩者之前，對其成膜的沉積速率的不同作出了實驗研究。

在實驗中，通過是平衡磁控濺射的基礎上增加附加的線圈來控制磁場的變化，形成非平衡磁控濺射條件，這種附加線圈可以改變磁場電流，調整在整個靶材表面所存在的磁場狀況，從而使其產生的離子密度更高，在研究數據中顯示，當離子密度提高，成膜的沉積速率也相應提高，通過這種調整電流的方式，可以提高磁控濺射鍍膜時的沉積速率。

把靶材與基底之間的距離改變，當距離越大，沉積速率就越低，相反就越高，所以要設定好靶材與基底的距離，距離大了，離子隨著磁場所產生的電流沉積到基底上的時間就長了，在此時間內受到真空鍍膜設備中的氣體散射的影響就多了，離子密度相對降低，距離短就受影響少，離子密度就高，但不是越短越好的，太短距離就相對減少成膜的面積，所以這個距離需要拿捏好，可以提高磁控濺射鍍膜時的沉積速率。從上述的表述我們可以知道，磁控濺射鍍膜機的技術還是十分有效的