為什么硅鐵中的含碳量很低？

       冶煉硅鐵用焦炭作還原劑，使較易增碳的自焙電極，采用焦炭磚砌筑出鐵口和流鐵槽，有時用石墨粉涂錠模，使用炭質(zhì)樣勺取液體樣等等。冶煉硅鐵從爐內(nèi)反應直到出鐵，澆注過程中，與碳接觸的機會顯然很多。

       硅鐵中硅含量越高，則其碳含量越低。硅鐵中硅含量約大于30%時，硅鐵中的碳絕大部分是以碳化硅﹙SiC﹚狀態(tài)存在。碳化硅在坩堝內(nèi)易被二氧化硅或一氧化硅氧化而被還原。在鋼材冶煉時不但硅與氧之間有著較大的親和力，而且高硅硅鐵粉的含碳量很低。碳化硅在硅鐵中，尤其溫度低時，其溶解度很小，易析出而上浮。所以，留在硅鐵中的碳化硅很低，故硅鐵含碳量很低。

冶煉硅鐵如何加料？

       硅鐵冶煉的基本反應，是利用焦碳中的碳，將硅石中二氧化硅的硅還原出來的反應。要使這一反應順利進行，必須有良好的爐況。正確的加料方法，是獲得良好爐況、達到高產(chǎn)量低消耗的關鍵環(huán)節(jié)之一。

       1.每批料必須混合均勻后加入爐內(nèi)，不準偏加料。

       2.爐料要連續(xù)地一小批一小批地加入爐內(nèi)。這樣不但易于控制料面的高度，而且可以使加入爐料的組成及其分布比較均勻。

       3.必須適當?shù)乜刂屏厦娴母叨?。料面高度過高則電極上升，料面過低易塌料，兩者都不能充分的利用熱量，都會對爐況產(chǎn)生不利的影響。

       4.加料時要隨時觀察爐況，如料面透氣性河電極動態(tài)等，必要時應采取相應的措施進行處理。

硅鐵冶煉時影響電極插入深度的因素有哪些？

       1、焦碳加入量：焦碳的導電性比硅強。如果焦碳加入量過多，會影響電極深插。因此，在滿足硅石中的二氧化碳充分還原的條件下，焦碳加入不要過多，以利于電極插入。

       2、焦碳粒度：焦碳的粒度小，表面積增大，增加接觸面，爐料的電阻大，則電極插入深；反之，焦碳的粒度大，表面積減少，爐料的電阻小，則電極的插入深度就變淺。

       3、焦碳性質(zhì)：這里主要是指焦碳本身的電阻。如果焦碳的電阻小，通過爐料的電流大，使電極上升，電極插入深度就淺。反之，焦碳的電阻大，例如使用煤氣焦等，因其電阻大，電極則可深插。