ZF300熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

ZF300熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)是專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶群體設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。采用大抽速分子泵準(zhǔn)無(wú)油高真空系統(tǒng)，機(jī)架電控一體化設(shè)計(jì)，整體布局緊湊合理，充分考慮人機(jī)工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的真空室結(jié)構(gòu)。兩組/三組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。一個(gè)靶槍配套的是直流電源，用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜2、該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應(yīng)用非常廣泛。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽(yáng)能電池、有機(jī)EL、LED顯示管研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。

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小方分子提純?cè)O(shè)備多源有機(jī)無(wú)機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)供應(yīng)

小方分子提純?cè)O(shè)備　　

主要用途：　　

用來(lái)生長(zhǎng)有機(jī)材料提純的研究工作?！　?

系統(tǒng)組成:　　該類(lèi)設(shè)備為單室結(jié)構(gòu)?！　?

技術(shù)指標(biāo)：　　

極限真空≤610-4Pa，工作壓力≤2*10-3Pa；　　

系統(tǒng)漏率≤6.7×10-7PaL/s?！　?

鍍膜室：腔室尺寸約為Φ50×350mm，石英材料，圓柱形結(jié)構(gòu)。　　

抽氣系統(tǒng)：采用分子泵 機(jī)械泵抽氣系統(tǒng)；　　

樣品可加熱，加熱溫度為：200-600℃；

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)　　

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