相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。

設(shè)計凈化系統(tǒng)組織的原則是相鄰二級過濾器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亞(或)三級過濾器。也可分四級，增加一級過濾器。凈化工程技術(shù)的興起不過是上個世紀(jì)的事情，但今天凈化技術(shù)發(fā)揮著重要作用則是有目共睹的。隨著產(chǎn)品向著好的方向發(fā)展，對凈化車間的依賴度也越來越高。而隨著凈化技術(shù)的發(fā)展，建設(shè)凈化車間的技術(shù)含量也越來越高，非專業(yè)人士不能也。除了在生產(chǎn)領(lǐng)域，凈化工程技術(shù)還會逐漸應(yīng)用于家庭、公共場合，為人們提供更潔凈的生活空間我們國家的空氣分子控制等的技術(shù)正在朝有利的方向發(fā)展，這項(xiàng)技術(shù)原先是由日本發(fā)展起來的，現(xiàn)在已經(jīng)受到了全世界的關(guān)注和認(rèn)可，在我們國家，這項(xiàng)技術(shù)已經(jīng)受到了相關(guān)行業(yè)的重視并且投入研發(fā)，相信在不久的未來，我們國家的相關(guān)科研人員一定會在這個領(lǐng)域取得讓人滿意的成績，為我們國家的凈化工程行業(yè)做出貢獻(xiàn)。

布置工藝的流程盡可能短，減少交叉往復(fù)，、物流走向合理。要配備人員凈化室、物料凈化室，除配備產(chǎn)品工序要求的用室外，還應(yīng)配備潔具室、洗衣間、暫存室等，每間用室相互，凈化工程的面積應(yīng)在保證基本要求前提下，與生產(chǎn)規(guī)模相適應(yīng)。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間"壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。

濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小?，F(xiàn)在我們國家的經(jīng)濟(jì)科技在發(fā)展，同時帶動了社會各行各業(yè)在告訴發(fā)展中。以凈化工程這個行業(yè)為例，在目前呈現(xiàn)一片喜人的發(fā)展態(tài)勢。