感光(曝光)完成后就要進(jìn)行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過顯影藥將未曝光的地方?jīng)_走，經(jīng)過曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。

曝光后要檢測曝光后的圖形質(zhì)量，若有遺漏需要進(jìn)行人工補(bǔ)油補(bǔ)點(diǎn)。補(bǔ)油后需要進(jìn)行第二次烘烤。

之后就進(jìn)行顯影，確定圖形的清洗度，顯影過程中主要是控制藥的濃度，溫度，速度以及完成后的烘干溫度。

對常用金屬材料的蝕刻以現(xiàn)有技術(shù)水平完全可以做較高的蝕刻速度可達(dá)0.1m/min以上這么快的速度需要腐蝕能力更強(qiáng)的配方及更高的溫度，為了維持溶液成分的相對穩(wěn)定可以采用大體積或自動分析調(diào)整技術(shù)，但在這里就有一個(gè)可用于批量生產(chǎn)的防蝕層怎么制作的問題本書中所講的一定是批量生產(chǎn)而不是實(shí)驗(yàn)室的工作。

所以快的蝕刻速度只是一個(gè)相對概念，是在容易控制的同時(shí)，防蝕層制作成本可接受、蝕刻深度均勻的前提下快的蝕刻速度才是有意義的。

對于深度要求淺的蝕刻材料的表面狀態(tài)及品粒組織就會對深度的均勻性產(chǎn)生影響，同時(shí)如果將蝕刻溶液及物理參數(shù)調(diào)到快的蝕刻速度其均勻性將無法控。付于蝕刻深度超過毫米級的要求其刻速度達(dá)到0.05mm/min時(shí)，在生產(chǎn)中會覺得太慢。如果對蝕刻深度要求在0.035mm時(shí)，其蝕刻速度在0.01mm/mim時(shí)會覺得太快。因?yàn)榻饘傥g刻時(shí)并不是所想象的那樣同時(shí)在整個(gè)金屬表面展開。


金屬蝕刻在生活中的應(yīng)用用途：石油、化工、食品、制藥用精密過濾網(wǎng)、過濾板、過濾筒、過濾器；電子行業(yè)用金屬漏板、蓋板、平面引腳、引線框架、金屬基片；精密光學(xué)及機(jī)械平面零件、彈簧零件；摩擦片及其它凹凸型平面零件；金屬標(biāo)牌及圖案復(fù)雜的金屬裝飾板和精美工藝品。用于集成電路印刷，熒光屏電子格柵，準(zhǔn)確過濾，微電極元件，電子行業(yè)的平面引腳、引線框架、基片等。還可制造標(biāo)牌、商標(biāo)及精美工藝品。