一般生產(chǎn)區(qū)清潔要求是什么

一般生產(chǎn)區(qū)清潔要求是什么？ 1）玻璃、墻面、門窗、頂棚應清潔，無塵埃，地上應平整，無積水、雜物。建筑結(jié)構(gòu)設備設備潔凈無缺，設備、管線排列規(guī)整并包扎光亮，無跑、冒、滴、漏現(xiàn)象，有定時清潔、修理的記載。 2）原輔料、中心產(chǎn)品、制品分類堆放，有防塵辦法，有明顯的狀況符號。 3）樓道、走廊、電梯間不能寄存物品，堅持曉暢、清潔。 4）生產(chǎn)用東西、容器、設備按規(guī)則放置，按規(guī)程清潔。 5）生產(chǎn)場所無非生產(chǎn)用品，不在生產(chǎn)場所內(nèi)吸煙、吃東西、睡覺、會客，不暴曬工裝。

潔凈級別6級和7級是比較常見的,我們選用了這兩個級別

通過對歷年工程實例的統(tǒng)計，在電了廠房的設計中，潔凈級別6級和7級是比較常見的，因此我們選用了這兩個級別作為本次實驗的模擬環(huán)境，并區(qū)分采用過濾器和采用FFU方案，在選用外資、合資與國內(nèi)品牌產(chǎn)品的情況，進行模擬。為了區(qū)別紛繁復雜的實際情況，我們對模擬對象進行了適當簡化，實驗的基本情況如下： (1)本次模擬對象為約3300平方米的普通電子潔凈室。潔凈室具體情況見圖1和圖2。 （2） 終端設備采用兩種方案進行設計：方案1采用過濾器；方案2采用 FFUO （3） 計算范圍：本次計算的工程量僅含潔凈室冷凍供應系統(tǒng)及空調(diào)凈化系統(tǒng)的設備及安裝材料（風管、閥門、風口）等，不包括潔凈室配套的土建裝飾、照明、控制等費用。

手術(shù)室空調(diào)機組的要求及要求

機組停機時,新風密閉閥同時關閉,風機如需停機,時間應可由用戶自行設定。 機組應配置紫外線燈滅菌。 機組應配置手動強制開機功能,確保機組在控制系統(tǒng)故障時仍可啟動。 機組應采用可匹配變頻器控制風機運行,以滿足手術(shù)室空調(diào)系統(tǒng)的要求。 機組應采用可實現(xiàn)多種工況運行模式,控制室內(nèi)溫濕度,可通過通信接實施中央監(jiān)控,或與BMS樓宇自動化系統(tǒng)聯(lián)網(wǎng)。 4.人和貨物進入車間必須經(jīng)過，風淋室，貨淋室，傳遞窗主要傳遞小物品。 5.在凈化車間內(nèi)局部需要達到10-1000級地方安裝垂直層流工作臺，層流罩（FFU），潔凈棚（可移式凈化工作棚），自凈器。 6.測試潔凈室潔凈度用，激光塵埃粒子計數(shù)器。

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈室中的溫濕度控制 潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。 具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。 濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。 潔凈室中的氣壓規(guī)定 對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應符合以下原則： 1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。 2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。 3.相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間。 壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。