?制氫設(shè)備的電極

制氫設(shè)備的電極是采用具有高催化性能的金屬或其氧化物，它們是以粉末形態(tài)覆蓋在電極的表面上，利用了一種叫Teflon黏合技術(shù)把這些粉末壓在了Nafion膜的兩面，利用這些穩(wěn)定的膜和電極形成了一個穩(wěn)定的結(jié)合體。

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制氫設(shè)備的應(yīng)用

在制氫間應(yīng)為單層不可燃材料建筑，制氫間應(yīng)設(shè)置必要的泄壓面積,泄壓面積與廠房的比值(m2/m3)一般采用0.05-0.10。門窗及輕質(zhì)墻體可作為泄壓面積,泄壓面積應(yīng)布置合理,并應(yīng)靠近爆的部位,不應(yīng)面對人員集中的地方和交通要道。

?制氫設(shè)備中的電解

制氫設(shè)備中的電解槽中陰極材料都是一些金屬，這些金屬包括Pt，Ir，Ru及鉑鉻合金，鉑一直被認(rèn)為是析氧的較好催化劑，但是在使用鉑的時候很容易產(chǎn)生一個問題：就是在電解中產(chǎn)生的微量金屬離子時，鉑因?yàn)榍冯娢怀练e而很容易造成中du，在使用氧化物處理陰極能消除欠電位沉積并能產(chǎn)期保持鉑的高活性。