池州AR鍍膜機(jī)廠家按需定制至成鍍膜設(shè)備

發(fā)布時(shí)間：2021-06-20 08:17

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常用的光學(xué)鍍膜有哪些？

二，光學(xué)薄膜

減反射膜是應(yīng)用廣、產(chǎn)量大的一種光學(xué)薄膜，因此，它至今仍是光學(xué)薄膜技術(shù)中重要的研究課題，研究的重點(diǎn)是尋找新材料，設(shè)計(jì)新膜系,改進(jìn)淀積工藝,使之用少的層數(shù)，簡(jiǎn)單、穩(wěn)定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達(dá)到理想的效果。對(duì)激光薄膜來說，減反射膜是激光損傷的薄弱環(huán)節(jié)，如何提高它的破壞強(qiáng)度，也是人們關(guān)心的問題之一。

反射膜

它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有把兩者結(jié)合起來的金屬電介質(zhì)反射膜。

一般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護(hù)。常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單，工作的波長范圍寬；缺點(diǎn)是光損耗大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)反射膜增加了某一波長（或者某一波區(qū)）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。

真空鍍膜機(jī)工作的特點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)工作的特點(diǎn)是濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定中頻設(shè)備必須加冷卻水進(jìn)行冷卻，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng)，電荷會(huì)聚集在電導(dǎo)有表面積，這樣會(huì)使電導(dǎo)發(fā)熱，所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。

冷水機(jī)能控制真空鍍膜機(jī)的溫度，以保證鍍件的高質(zhì)量。如果不配置冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)達(dá)到、率控制溫度的目的，因?yàn)樽匀凰退岫疾豢杀苊獾厥艿阶匀粴鉁氐挠绊?，而且此方式控制是極不穩(wěn)定的。

冷成型模真空鍍膜機(jī)

高強(qiáng)度材料成形冷成型模真空鍍膜機(jī)高強(qiáng)度金屬成型中存在的高成型壓力和產(chǎn)生的摩擦成為工模具和涂層要面對(duì)的重要挑戰(zhàn)。PVD和CVD涂層展示的韌性、耐磨性和抗磨損性能顯著提高工具的生產(chǎn)能力。

HC90Concept，作為一種無需氮化處理的新型物理氣相沉積（PVD）涂層，對(duì)于這些應(yīng)用領(lǐng)域來講是非常理想的解決方案。HC22，HC25，HC30或HC62，均結(jié)合了氮化處理，對(duì)于公差要求高的工具是非常合適的涂層方案。HC02和HC62是非常適合公差要求不高工具的涂層方案。

有色金屬材料成型有色金屬材料通常比一般鋼材有更好的成形性，但其表面更難改變。HCPVD和PACVD涂層工藝的韌性、耐磨性、低摩擦和抗磨損性能夠顯著加強(qiáng)工具的生產(chǎn)能力，提高零部件的質(zhì)量。冷鍛冷鍛是一種將固定大小的金屬塊組合成等量的復(fù)雜形狀的成型工藝。此過程中的工模具要經(jīng)受高強(qiáng)度的壓力和高速率，和工件接觸的表面必然會(huì)產(chǎn)生磨料和粘著磨損。HCPVD和PACVD和HCCVD涂層工藝的韌性、耐磨性和低摩擦性能能夠顯著提高工模具的使用壽命和產(chǎn)品的質(zhì)量。

全自動(dòng)真空鍍膜機(jī)