我國作為電鍍大國，各種先進(jìn)技術(shù)都有體現(xiàn)。真空電鍍工作有著寬廣的展開前景。未來我國電鍍工作將向以下四個(gè)方向展開：一、傳統(tǒng)裝修性電鍍將被噴涂、物相堆積等代替，功能性電鍍產(chǎn)品需求則有上升的趨勢(shì)；二、某些污染嚴(yán)峻的電鍍工藝將被清潔的電鍍工業(yè)所代替；三、部分性能好、無污染的表面工程的高新技術(shù)將進(jìn)入我國商場(chǎng)。四、隨著轎車、電子、家用電器、航空、航天工業(yè)、建筑工業(yè)及相應(yīng)的裝修工業(yè)的展開以及人們對(duì)美化日子需求的不斷提高,對(duì)真空電鍍產(chǎn)品的裝修性和抗蝕性的需求將明顯增加。

電弧或弧光放電的基本概念：電弧或弧光放電是氣體放電的一種方法。氣體放電在性質(zhì)上和外觀上是各式各樣的。在正常狀況下，氣體有杰出的電氣絕緣功用。但當(dāng)在氣體空位的兩頭加上足夠大的電場(chǎng)時(shí)，就可以致使電流通過氣體。這種現(xiàn)象稱為放電。放電現(xiàn)象與氣體的種類和壓力、電極的資料和幾何形狀、南北極間的間隔以及加在空位兩頭的電壓等要素有關(guān)。例如在正常狀況下，給氣體空位兩頭的電極加壓到必定程度時(shí)，一般空氣中電子在電場(chǎng)效果下高速運(yùn)動(dòng)，與氣體分子磕碰后產(chǎn)生較多的電子和離子，真空電鍍?cè)O(shè)備重生的電子和離子又同中性原子磕碰，產(chǎn)生更多的電子和離子，這時(shí)，氣體開始發(fā)光，兩電極變?yōu)榛馃?，電流增大。這種性質(zhì)上的改動(dòng)稱為氣體空位的擊穿，其所需的電壓稱為擊穿電壓。 這時(shí)，因?yàn)殡妶?chǎng)的支撐，放電并不中止，故稱為自我按捺放電。電弧則是氣體自我按捺放電的一種方法。電弧具有電流密度大和陰極電位下降的特征。

真空電鍍生產(chǎn)廠家在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1～0.2電子伏。