多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質(zhì)增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘，可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產(chǎn)品、器械、儀器儀表等領(lǐng)域。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備在真空條件下采用物理氣相沉積技術(shù)，在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術(shù)、柱形靶及磁控油射離子鍍技術(shù)有機(jī)結(jié)合在一起，可單獨(dú)使用或同時(shí)使用，制取含有連續(xù)過渡層的各種膜層。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備制造簡單，使用方便，運(yùn)行成本低無污染，經(jīng)濟(jì)效益高。其雙真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大節(jié)省投資。

PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)工藝步驟及原理

廠家在采購PVD真空鍍膜機(jī)時(shí)，商家都會(huì)培訓(xùn)PVD真空鍍膜機(jī)的相關(guān)知識(shí)，如鍍膜技術(shù)工藝步驟、原理、保養(yǎng)維護(hù)方法，機(jī)器的運(yùn)行注意事項(xiàng)等等，今天至成小編為大家介紹一下PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)工藝步驟和原理。

PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)工藝步驟，分為以下四個(gè)步驟：

（1）清洗工件：接通直流電源，Ar氣進(jìn)行輝光放電為Ar離子，Ar離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

（2）鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

（3）鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞以及高壓電場后，高速?zèng)_向工件；

（4）鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

如果是鍍離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能，高速轟擊工件時(shí)，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。

光學(xué)鍍膜技術(shù)在過去幾十年實(shí)現(xiàn)了飛快的發(fā)展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術(shù)發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術(shù)。近年來在這些沉積技術(shù)和裝備領(lǐng)域的主要技術(shù)有以下三點(diǎn)：

一、漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備：

漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備:已經(jīng)有大量研究工作已經(jīng)證實(shí)Rugate無界面型薄膜結(jié)構(gòu)和準(zhǔn)Rugate多種折射率薄膜結(jié)構(gòu)通過加強(qiáng)調(diào)制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設(shè)計(jì)出非常復(fù)雜的光譜性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應(yīng)，如電磁波在界面上比薄膜內(nèi)部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學(xué)穩(wěn)定性。

二、磁控濺射光學(xué)鍍膜系統(tǒng)

以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術(shù)及裝備在精密光學(xué)領(lǐng)域和消費(fèi)光電子薄膜領(lǐng)域占據(jù)越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單，粒子能量高，獲得的薄膜結(jié)構(gòu)致密穩(wěn)定。

三、間歇式直接光控：

間歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統(tǒng)為代表，光學(xué)鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號(hào)采集系統(tǒng)，對(duì)鍍膜過程產(chǎn)品片實(shí)現(xiàn)直接監(jiān)控。相對(duì)于間接光控和晶控系統(tǒng)，間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實(shí)際產(chǎn)品上的薄膜厚度分布誤差，可以進(jìn)一步提高產(chǎn)品良率并減少了工藝調(diào)試時(shí)間。