PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應(yīng)于PVD技術(shù)的三個分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今zui先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

鋁是熱鍍鋅中zui常用的添加元素。在鋅液中添加不同濃度的鋁可以獲得不同性質(zhì)的鍍鋅層。

一般認(rèn)為熱鍍鋅時，在鋅液中加入<1%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)，下同)的鋁可以起到下列作用：①提高鍍層光亮性;②減少鋅液面的氧化;③抑制脆性Fe—Zn相的形成而獲得粘附性好的鍍層。而在實際生產(chǎn)中，鋅液中含有0.005%～0.020%Al就可以達到鍍層光亮的目的，并可減少鋅液表面的氧化和鋅灰的產(chǎn)生。

采用Zn—Al中間合金的添加方式m往往由于添加的中間合金的質(zhì)量問題以及添加鋁和鋅鋁合金的方法不當(dāng)或過快，導(dǎo)致鋅液中形成大量的鋁、鐵化合物，此鋅鋁鐵三元“面渣”或顆粒懸浮在鋅液表面而且十分粘稠，極易粘附在鋼鐵制件上，嚴(yán)重?fù)p害了鍍層質(zhì)量，此時僅靠降溫?fù)圃菦]用的。

熱鍍基板可以是熱軋也可以是冷軋基板，一些外貿(mào)詢單中會用HX或HC這種簡稱來代指熱軋基板或是冷軋基板。這是源自歐標(biāo)牌號的命名規(guī)則，當(dāng)然是不太規(guī)范的。

此外，在某些行業(yè)中，GI常被用來代指熱鍍純鋅鍍層、GA代指熱鍍鋅鐵鍍層、ZAM代指鋅鎂鍍層。

主流的熱鍍鍍層分為六大類，分別是：

1、熱鍍純鋅（Z）

2、熱鍍鋅鐵合金（ZF）

3、熱鍍鋅鋁（ZA）

4、熱鍍鋁鋅（AZ）

5、熱鍍鋁硅（AS）

6、熱鍍鋅鎂（ZM）