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發(fā)布時(shí)間:2020-11-13 02:53  
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磁控濺射鍍膜的優(yōu)點(diǎn)
磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一,磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜,在國(guó)1防和國(guó)民經(jīng)濟(jì)生產(chǎn)中的作用和地位日益強(qiáng)大。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性,沉積速率,靶材利用率等方面的問(wèn)題是實(shí)際生產(chǎn)中十分關(guān)注的。無(wú)心插柳技術(shù)性的出現(xiàn)和運(yùn)用早已親身經(jīng)歷了很多環(huán)節(jié),當(dāng)初,僅僅簡(jiǎn)易的二極、三極充放電無(wú)心插柳堆積。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵?
磁控濺射技術(shù)發(fā)展過(guò)程中各項(xiàng)技術(shù)的突破一般集中在等離子體的產(chǎn)生以及對(duì)等離子體進(jìn)行的控制等方面。通過(guò)對(duì)電磁場(chǎng)、溫度場(chǎng)和空間不同種類粒子分布參數(shù)的控制,使膜層質(zhì)量和屬性滿足各行業(yè)的要求。
膜厚均勻性與磁控濺射靶的工作狀態(tài)息息相關(guān),如靶的刻蝕狀態(tài),靶的電磁場(chǎng)設(shè)汁等。
濺射鍍膜膜厚均勻性是間接衡量鍍膜工藝的標(biāo)準(zhǔn)之一,它涉及鍍膜過(guò)程的各個(gè)方面。因此,制備膜厚均勻性好的薄膜需要建立一個(gè)濺射鍍膜膜厚均勻性綜合設(shè)計(jì)系統(tǒng),對(duì)濺射鍍膜的各個(gè)方面進(jìn)行分類、歸納和總結(jié),找出其內(nèi)在聯(lián)系。
磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊ya氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。
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我國(guó)真空鍍膜機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和前景分析
當(dāng)前我國(guó)真空鍍膜設(shè)備行業(yè)等傳統(tǒng)制造業(yè)產(chǎn)能過(guò)剩已經(jīng)顯現(xiàn),倒逼效應(yīng)顯著,國(guó)家大力發(fā)展環(huán)保產(chǎn)業(yè),對(duì)傳統(tǒng)電鍍行業(yè)予以取締或轉(zhuǎn)型或限產(chǎn),這正是離子鍍膜行業(yè)發(fā)展的大好時(shí)機(jī)。磁場(chǎng)與電場(chǎng)的交互作用使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運(yùn)動(dòng)。真空鍍膜的高性價(jià)比以及傳統(tǒng)電鍍對(duì)環(huán)境的污染迫使真空鍍膜成為了主流,各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設(shè)備不斷增加。
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磁控濺射法的優(yōu)勢(shì)
目前常用的制備CoPt 磁性薄膜的方法是磁控濺射法。磁控濺射法是在高真空充入適量的ya氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽(yáng)極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,使ya氣發(fā)生電離。ya離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,將靶材表面原子濺射出來(lái)沉積在基底表面上形成薄膜。通過(guò)更換不同材質(zhì)的靶和控制不同的濺射時(shí)間,便可以獲得不同材質(zhì)和不同厚度的薄膜。磁控濺射種類用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點(diǎn)火和濺射很方便。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng)、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點(diǎn)。
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