潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院螅瑢?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過(guò)25度，濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。缺點(diǎn)：亂流造成的微塵粒子于室內(nèi)空間飄浮不易排出，易污染制程產(chǎn)品。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)的濕度范圍為35—45%。

賽達(dá)凈化堅(jiān)持秉承以科技為先導(dǎo)、以市場(chǎng)為導(dǎo)向的科學(xué)管理理念，憑借規(guī)范化管理及專業(yè)的技術(shù)力量在食品、藥品、化妝品、微電子等諸多工業(yè)領(lǐng)域設(shè)計(jì)承建了潔凈SC廠房、GMP廠房、無(wú)菌室、實(shí)驗(yàn)室及相關(guān)配套產(chǎn)品。我們的宗旨：專業(yè)！誠(chéng)信！高效！

大部分凈化廠房尤其電子工業(yè)用的潔凈廠房都有嚴(yán)格的恒溫、恒濕的要求，不僅對(duì)廠房?jī)?nèi)的溫、濕度有嚴(yán)格的要求，而且對(duì)溫度和相對(duì)濕度的波動(dòng)范圍也有嚴(yán)格的要求。因此，在凈化空調(diào)系統(tǒng)的空氣處理上要采取相應(yīng)的措施，例如：夏季要降溫、去濕（因?yàn)橄募臼彝饪諝馐歉邷?、高濕的），冬季要加熱加濕（因?yàn)槎臼彝饪諝馐呛涓稍锏?，室?nèi)濕度過(guò)低會(huì)產(chǎn)生靜電，靜電對(duì)電子產(chǎn)品的生產(chǎn)是致命的）。一）電荷等量的均勻的電中性狀態(tài)，而使電荷過(guò)剩，物體呈帶電狀態(tài)，由于這些電荷平時(shí)是不流動(dòng)的，故稱靜電。

風(fēng)淋傳遞窗是潔凈室的一種輔助設(shè)備，為了減少由于貨物進(jìn)出所帶來(lái)的大量塵埃粒子，風(fēng)淋傳遞窗經(jīng)過(guò)濾器過(guò)濾后的潔凈氣流由可旋轉(zhuǎn)噴嘴從各個(gè)方向噴射至貨物上，有效而迅速清除塵埃粒子，清除后的塵埃粒子再由初、過(guò)濾器過(guò)濾后重新循環(huán)到風(fēng)淋區(qū)域內(nèi)。為了達(dá)到吹淋的較好效果，噴嘴出風(fēng)口風(fēng)速能達(dá)到20s以上。地面采用環(huán)氧樹(shù)脂自流坪、防靜電PVC地板或****耐磨塑料潔凈地板。

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