公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘，所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進(jìn)行生產(chǎn)。

光學(xué)掩模板的應(yīng)用

光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成電路）芯片，還應(yīng)用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。

光掩膜所起的作用類似于底片之于相片，光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影，這種方法就是熟稱的曝光，這個(gè)時(shí)候的掩膜也可稱為光罩。

準(zhǔn)納光電制作掩膜板，光刻鉻版，設(shè)計(jì)，制作，加工，批量化生產(chǎn) 蝕刻工藝 精度1um 承接掩模板，光刻鉻板，標(biāo)定板，光柵板，分劃板，異型玻璃加工

按石英含量可分為兩類：①長石石英巖，石英含量大于75%，常含長石及云母等礦物，長石含量一般少于20%。如長石含量增多，則過渡為淺粒巖。②石英巖，石英含量大于90%，可含少量云母、長石、磁鐵礦等礦物。

石英掩膜版

使用石英玻璃為基板材料，光學(xué)透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整和耐磨，使用壽命長，主要用于掩膜版

蘇達(dá)掩膜版

使用蘇打玻璃作為基板材料，光學(xué)透過率較高，熱膨脹率相對高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版