加厚呢：呢絨壓制品，使用于鋼鐵材料的拋光;

　　拋光布使用方法：

　　1.無膠普通使用時，直接放置在拋光盤上，用壓圈扣住即可

　　2.帶膠粘貼拋光盤使用，可將拋光織物直接固定在拋盤上，采用壓敏膠制成，拋光布平整，樣品不會產(chǎn)生倒角現(xiàn)象

鋁合金粗拋墊，鋁合金拋光墊，聚胺脂拋光墊用于對鋁合金表面進行減薄粗磨工序，去除鋁合金表面刀痕，使鋁合金表面達到一定的亞光效果，方便拋光。

磨料在粒徑大小可影響到磨粒的壓強及其切入工件的深度。一般來說 ,在拋光過程中, 粒徑大的磨粒壓強大,機械去除作用較強,材料去除率較高。所以

粒徑較大的磨粒容易在拋光表面產(chǎn)生較大的殘留劃痕甚至殘留裂紋;而粒徑較小的磨?？色@得較好的拋光表面質(zhì)量。另外在磨粒直徑相同的情況下,球形

磨粒比表面不平的磨粒去除效率更高。

2 ph值調(diào)節(jié)劑

拋光液中常常添加一些化學試劑用于調(diào)節(jié)拋光液的ph值。以保證拋光過程化學反應(yīng)的進行。化學機械拋光拋光液一 般分為酸性和堿性兩大類。

在晶圓(芯片)制造過程中(見圖1)多次使用CMP工藝。

化學機械拋光過程(見圖2)使用安裝在剛性拋光平盤上的柔性拋光墊，硅片被壓在拋光墊上，在拋光液的作用下進行拋光，拋光液含有化學液(即H2O2)和納米磨料。硬的硅基陶瓷材料由磨料的機械作用拋光，而金屬則由金屬和拋光液內(nèi)的化學物質(zhì)之間的化學反應(yīng)進行拋光，即采用化學與機械方法綜合作用去除多余材料而得到平坦化的高質(zhì)量表面。