此外，稀土拋光粉也可以根據其添加劑的不同種類來劃分，稀土拋光粉生產技術屬于微粉工程技術，稀土拋光粉屬于超細粉體，國際上一般將超細粉體分3種：納米級（1nm~100nm）；亞微米級（100nm~1μm）；微米級（1μm~100μm），據此分類方法，稀土拋光粉可以分為：納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉3類，通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級，其粒度分布在1μm~10μm之間，稀土拋光粉根據其物理化學性質一般使用在玻璃拋光的后工序，進行精磨

原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級系稀土拋光粉產品。主要設備：球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。主要指標：產品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;產品粒度為1.5μm~2.5μm.該產品適合于眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。目前，國內生產的低級系稀土拋光粉的量，約占總產量的90%以上。

稀土拋光粉的應用

　　由于系稀土拋光粉具有較優(yōu)的化學與物理性能，所以在工業(yè)制品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的拋光。

　　高系稀土拋光粉，主要適用于精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優(yōu)良，拋光效果較好，由于價格較高，國內的使用量較少。

　中系稀土拋光粉，主要適用于光學儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高粉比較，可使拋光粉的液體濃度降低11%,拋光速率提高35%,制品的光潔度可提高一級，拋光粉的使用壽命可提高30%.目前國內使用這種拋光粉的用量尚少，有待于今后繼續(xù)開發(fā)新用途。

　　低系稀土拋光粉，如771型適用于光學眼鏡片及金屬制品的高速拋光；797型和C-1型適用于電視機顯象管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光；H-500型和877型適用于電視機顯象管的拋光。此外，其它拋光粉用于對光學儀器，攝像機和照像機鏡頭等的拋光，這類拋光粉國內用量，約占國內總用量85%以上。