真空鍍膜機蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

真空鍍膜機電子束蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能分析研究，為了獲得性能良好的半導體電極Al膜，我們通過優(yōu)化工藝參數(shù)，制備了一系列性能優(yōu)越的Al薄膜。通過理論計算和性能測試，分析比較了真空鍍膜設備電子束蒸發(fā)與磁控濺射兩種方法制備Al膜的特點。

嚴格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因為Al膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說，它的工作電壓高，電流大，沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積Al膜上電流密度過高，易燒毀。對于一般的半導體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網(wǎng)狀結構，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過厚，引起光刻時圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。

采用真空鍍膜機電子束蒸發(fā)，行星機構在沉積薄膜時均勻轉動，各個基片在沉積Al膜時的幾率均等;行星機構的聚焦點在坩堝蒸發(fā)源處，各個基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。

附著力反映了Al膜與基片之間的相互作用力，也是保證器件經(jīng)久耐用的重要因素。真空鍍膜設備濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個數(shù)量級。真空鍍膜機高能量的濺射原子沉積在基片上進行的能量轉換比蒸發(fā)原子高得多，產(chǎn)生較高的熱能，部分高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象，在基片上形成一層濺射原子與基片原了相互溶合的偽擴散層，而且，在真空鍍膜設備成膜過程中基片始終在等離子區(qū)中被清洗，清除了附著力不強的濺射原子，凈化基片表面，增強了濺射原子與基片的附著力，因而濺射Al膜與基片的附著力較高。

真空鍍膜機的維修方法介紹

一、當正在鍍膜時真空度突然下降：

1、蒸發(fā)源水路膠圈損環(huán)（更換膠圈）

2、坩堝被打穿（更換坩堝）

3、高壓電極密封處被擊穿（更換膠圈）

4、工轉動密封處膠圈損壞（更換膠圈）

5、預閥突然關閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥）

6、高閥突然關閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥）

7、機械泵停機可能是繼電器斷開（檢查繼電器是否工作正常）

8、烘烤引入線電極密封處被擊穿（更換膠圈）

9、擋板動密封處膠圈損壞（更換膠圈）

10、玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂（更換玻璃）

二、長期工作的鍍膜機抽真空的時間很長且達不到工作真空、恢復真空、極限真空、保真空：

1、蒸發(fā)室有很多粉塵（應清冼）

2、擴散泵很久未換油（應清冼換油）

3、前級泵反壓強太大機械泵真空度太低（應清冼換油）

4、各動密封膠圈損壞（更換膠圈）

5、由于蒸發(fā)室長期溫度過高使其各密封膠圈老化（更換膠圈）

6、蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞（更換膠圈）

7、各引入座螺釘、螺母有無松動現(xiàn)象（重新壓緊）

8、高低預閥是否密封可靠（注油）

真空鍍膜機和蒸發(fā)真空鍍膜機的差異

真空鍍膜機是在中間設置真空室，在真空室的左右兩側設置左右大門，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門上預留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。真空鍍膜機一般都是由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、薄膜卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等主要部分組成。

當薄膜運行速度達到一定數(shù)值后，打開擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。

通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動速度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。而蒸發(fā)真空鍍膜機是專業(yè)在塑料表面進行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的設備，鍍出的膜層牢固且細密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設備，其特點是它的環(huán)保性，真空鍍膜設備屬于無三廢、無污染的清潔生產(chǎn)設備，無須環(huán)保部門審批。分為立式和臥式。

蒸發(fā)真空鍍膜設備成膜速率快，膜層牢固，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產(chǎn)生廢液、廢水，可避免對環(huán)境的污染，是大規(guī)模生產(chǎn)的理想設備。離子真空鍍膜機是當今世界上用于表面涂裝PVD膜層的先進設備,運用PLC及觸摸屏實現(xiàn)自動化邏輯程序控制操作,設備結構合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達到人機對話，簡便。