光學(xué)真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜特點分類

光學(xué)真空鍍膜機(jī)的光學(xué)鍍膜特點有哪些呢？很多人很好奇，畢竟是真空鍍膜行業(yè)的新技術(shù)，已經(jīng)廣泛用于數(shù)碼科技，傳統(tǒng)銀鏡，科學(xué)儀器，光通信，半導(dǎo)體，新能源等行業(yè)，獲眾多廠商認(rèn)可，并大量投入使用。那么光學(xué)真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜特點分哪幾種類型呢？下面為大家詳細(xì)介紹一下：

主要的光學(xué)真空鍍膜機(jī)光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等，它們在國民經(jīng)濟(jì)和建設(shè)中得到廣泛的應(yīng)用，獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍的減小;采用高反射膜比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高;利用光學(xué)薄膜可提高硅電池的效率和穩(wěn)定性。

簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)膜層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色光平面波入射到光學(xué)薄膜上時，在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律給出，反射光合折射光的振幅大小則有菲涅爾公式確定。

真空鍍膜機(jī)離子鍍是什么?

很多人聽說過離子真空鍍膜機(jī)，但是對于真空鍍膜機(jī)離子鍍了解甚少，離子鍍是一種鍍膜工藝中的一種，下面為大家詳細(xì)介紹一下：首先給大家它定義：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。

它的原理是：蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性Ar氣，在放電電場作用下部分Ar氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的Ar離子受陰極負(fù)高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同Ar離子一同沖向工件，當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

它能分為四類：①磁控濺射離子鍍。②反應(yīng)離子鍍。③空心陰極放電離子鍍。④多弧離子鍍。

它的特點：鍍層附著性能好，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生；繞鍍能力強(qiáng)，因此這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫，等其他方法難鍍的部位；鍍層質(zhì)量好，離子真空鍍膜機(jī)鍍膜的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻；清洗過程簡化。

多弧離子真空鍍膜機(jī)的由來

我國在真空鍍膜行業(yè)，目前更多的應(yīng)用都集中在裝飾方面，對能有效地提高關(guān)鍵部件使用壽命機(jī)械功能薄膜的制備設(shè)備、工藝及應(yīng)用研究方面還遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于國外先進(jìn)水平。同時，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發(fā)展，之前的離子鍍膜機(jī)已體現(xiàn)出不能滿足裝飾鍍要求的問題。本技術(shù)的研發(fā)成功，將打破國內(nèi)機(jī)械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國外技術(shù)的被動局面；對提高我國裝備制造業(yè)的技術(shù)水平和真空離子鍍的技術(shù)發(fā)展都是一個非常好的作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應(yīng)用于其它關(guān)鍵部件中，起到了非常好的節(jié)約能源和提率的作用，可替代部分原來電鍍的工藝，對環(huán)境保護(hù)起到很好的作用。

目前，國際上機(jī)械功能硬質(zhì)薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術(shù)，但陰極電弧沉積存在的主要技術(shù)問題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應(yīng)用性能；特別是國內(nèi)制造的陰極電弧沉積設(shè)備顆粒問題尤為嚴(yán)重。在此技術(shù)基礎(chǔ)上引入磁過濾技術(shù)，雖可解決表面沉積的顆粒問題，但沉積效率只有原來的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產(chǎn)周期長，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產(chǎn)應(yīng)用。而磁控濺射技術(shù)所制備的膜層表面光潔、細(xì)膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術(shù)也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結(jié)合力上不如陰極電弧技術(shù)所制備的膜層；在進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)性鍍膜（如TiN、TiO2）時，由于金屬粒子的離化率低、反應(yīng)活性差，必須過量通入反應(yīng)性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學(xué)反應(yīng)），引起蒸發(fā)速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應(yīng)鍍膜存在著不穩(wěn)定性和不可控性。