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常州研磨盤圖片常用解決方案 新光速光電科技

發(fā)布時間:2021-09-22 07:51  

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正確處理研磨的運動軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中﹐一般要求﹕①工件相對研具的運動﹐要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近﹔②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面﹐以利于研具均勻磨損﹔③運動軌跡的曲率變化要小﹐以保證工件運動平穩(wěn)﹔④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱﹐研磨一般在低壓低速條件下進行。



要想獲得高質(zhì)量的拋光效果,的是要具備有高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等拋光工具和輔助品。而拋光程序的選擇取決于前期加工后的表面狀況,如機械加工、電火花加工,磨加工等等。機械拋光的一般過程如下:

(1 )粗拋

經(jīng)銑、電火花、磨等工藝后的表面可以選擇轉(zhuǎn)速在 35 000 — 40 000 rpm 的旋轉(zhuǎn)表面拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用的方法有利用直徑Φ 3mm 、 WA # 400 的輪子去除白色電火花層。然后是手工油石研磨,條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。



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通過此項技術(shù),讓化工企業(yè)科研實力的突飛猛進成為可能!

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配方分析應(yīng)用領(lǐng)域:

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