由于派瑞林涂膜是在常溫下以帶有雙游離基活性單體沉積的，先是單體沉落附著在印制板組件基體上，然后才是各單體的活性鍵的鍵合，從而連成一片，形成一個(gè)整體膜層。通過長(zhǎng)期使用，我們發(fā)現(xiàn)，涂敷層的各點(diǎn)就是一個(gè)獨(dú)立的保護(hù)點(diǎn)，當(dāng)局部涂層損壞時(shí)，不會(huì)嚴(yán)重地影響其周邊區(qū)域涂層的防護(hù)性，同時(shí)涂敷層的各點(diǎn)又通過化學(xué)鍵連接一起，形成整體，更增強(qiáng)了其防護(hù)性能。

       真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍?cè)O(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm時(shí)，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。可見，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實(shí)現(xiàn)互補(bǔ)，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達(dá)到終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。

       比較各種產(chǎn)品在惡劣環(huán)境下的性能，也可以讓用戶根據(jù)使用條件來進(jìn)行產(chǎn)品選擇。例如：腐蝕性氣體環(huán)境對(duì)保形涂層、聚氨酯樹脂和硅樹脂的影響。通過將三者暴露于混合氣體環(huán)境后，檢查L(zhǎng)ED燈珠的光通量百分比降低。這些結(jié)果清楚地說明了為環(huán)境選擇正確產(chǎn)品的重要性。雖然保形涂層在腐蝕性氣體環(huán)境中表面絕緣電阻不會(huì)劣化，但是對(duì)于LED燈珠而言，它不能保護(hù)LED燈珠，因?yàn)樗梢宰寶怏w通過薄涂層并穿透LED燈珠，從而隨時(shí)間推移，其性能降低。