酸能利用化學(xué)反應(yīng)溶解金屬。借此在金屬表面蝕刻出圖案，便可以替代勞動(dòng)密集型且技術(shù)要求更高的手工雕刻。法國(guó)學(xué)者耶罕·勒貝格在1531年寫下了酸浸蝕鐵的配方。他從水與醋的混合物中提煉出出氯化銨、普通的明礬和流酸亞鐵。基本原則大體是：金屬被蝕刻時(shí)先要徹底清洗，之后圖上一層耐酸物質(zhì)。這被稱作為“抗蝕層”。在蠟層中刻出圖案，使底下的金屬部分顯露出來(lái)。制備好的金屬材料被浸漬在鹽酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的區(qū)域被刻蝕到所需的深度。之后將抗蝕層清除，就可展現(xiàn)出蝕刻的成品樣子。燙金或者發(fā)黑都可以被用于突出圖案。金屬蝕刻制品上的圖案往往比傳統(tǒng)雕刻更方便而代價(jià)更少。


比較適宜的顯影溫度范圍是20~25℃。顯影時(shí)間對(duì)PS版的顯影質(zhì)量有直接的影響，顯影時(shí)間不足，非圖像部分的感光層不能徹底溶解，會(huì)引起版面起臟。顯影時(shí)間越長(zhǎng)，顯影就越徹底，但顯影時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，對(duì)印版上網(wǎng)點(diǎn)曝光虛邊過(guò)渡的侵蝕作用也越深人，版面上的細(xì)小網(wǎng)點(diǎn)容易丟失而如果顯影液的濃度偏低，堿性過(guò)弱，會(huì)使顯影速度過(guò)慢,容易出現(xiàn)顯影不徹底、版面起臟和暗調(diào)小白點(diǎn)糊死等現(xiàn)象。


若曝光過(guò)度，會(huì)造成顯影困難，也會(huì)在電鍍過(guò)程中產(chǎn)生起翹剝離，形成滲鍍。所以，解決的工藝措施就是嚴(yán)格控制曝光時(shí)間，每種類型的干膜在起用時(shí)應(yīng)按工藝要求進(jìn)行測(cè)量。如采用瑞士頓21級(jí)光楔表，級(jí)差0.15，以控制6-9級(jí)為宜。曝光時(shí)間過(guò)長(zhǎng)。當(dāng)曝光過(guò)度時(shí)，紫外光透過(guò)照相底片上透明部分并產(chǎn)生折射、衍射現(xiàn)象，照射到照相底片不透明部分下的干膜處，使本來(lái)不應(yīng)該發(fā)生光聚合反應(yīng)的該部分干膜，被部分曝光后發(fā)生聚合反應(yīng)，顯影時(shí)就會(huì)產(chǎn)生余膠和線條過(guò)細(xì)的現(xiàn)象。因此，適當(dāng)?shù)目刂破毓鈺r(shí)間是控制顯影效果的重要條件。


曝光不足時(shí)，由于聚合不徹底，在顯影過(guò)程中，膠膜溶脹變軟，導(dǎo)致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結(jié)合不良；若曝光過(guò)度，會(huì)造成顯影困難，也會(huì)在電鍍過(guò)程中產(chǎn)生起翹剝離，形成滲鍍。同時(shí)在批量生產(chǎn)時(shí)，還應(yīng)該注意當(dāng)紫外光管長(zhǎng)期運(yùn)行過(guò)程中，產(chǎn)生溫升，熱輻射量大，在底片下的干膜上發(fā)生類似與紫外線照射為類似作用，使干膜聚合，也稱熱聚合反應(yīng)。為此，這就要求曝光機(jī)應(yīng)有冷卻裝置。