不導(dǎo)電（NCVM）鍍膜設(shè)備NCVM又稱不連續(xù)鍍膜技術(shù)或不導(dǎo)電電鍍技術(shù)，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術(shù)。真空電鍍，簡稱 vm， 是vacuum metalization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運(yùn)用化學(xué)和物理等特定手段進(jìn)行有機(jī)轉(zhuǎn)換，使金屬轉(zhuǎn)換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。

        進(jìn)口不導(dǎo)電（NCVM）鍍膜設(shè)備應(yīng)用于塑料電子產(chǎn)品:手機(jī)外殼、手機(jī)按鍵、電腦、數(shù)碼、電子通信等的表面鍍制不導(dǎo)電膜（NCVM）。大功率蒸發(fā)系統(tǒng)，可控硅控制，重復(fù)性、穩(wěn)定性高,獨(dú)有鍍透電極設(shè)計(jì)，配置石英晶振，可控制任何膜層厚度,擁有的工件架技術(shù)，轉(zhuǎn)速平穩(wěn)可調(diào)，產(chǎn)量大且良品率高。

       真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子?xùn)|轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

       濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)(Ar)原子電離成氮離子(Ar)，離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在10-2pa~10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

       困擾聽障人士的，莫過于助聽器的日常護(hù)理工作，助聽器怕臟怕潮濕，而且助聽器內(nèi)的電子元件小型化，抗干擾，等要求，更需要適應(yīng)各種惡劣的工作環(huán)境。隨著防水、防潮、防塵技術(shù)的不斷發(fā)展，派瑞林（Parylene）真空納米鍍膜技術(shù)在提升助聽防護(hù)領(lǐng)域得到了很好的應(yīng)用。

       派瑞林涂層作為一種新型的三防材料，存在環(huán)保wu毒無氣味不污染環(huán)境的先天優(yōu)勢，通過氣相沉積CVD的方式形成一種致密的防護(hù)膜，從而對被涂敷的產(chǎn)品起到防潮防鹽霧防霉菌的三防效果。

       派瑞林涂層薄膜的止回閥。微閥具有扭曲型的派瑞林涂層膜, 當(dāng)有流體順流時(shí), 派瑞林涂層薄膜抬起, 允許流體通過; 當(dāng)有流體逆時(shí),派瑞林涂層薄膜封住了通道阻止其流動(dòng)。該結(jié)構(gòu)的微閥順流沖破壓力小于0. 5 kPa, 逆流的制止壓力達(dá)600 kPa以上, 同時(shí)具有較低的反向泄漏, 性能非常好。由于派瑞林涂層較小的楊氏模量, 產(chǎn)生了較大的變形, 基本可以忽略由薄膜引起的流體阻抗。單通道常閉微止回閥, 整個(gè)微閥和微通道都是由派瑞林涂層 C制成的, 其結(jié)構(gòu)為在圓形閥座上的一個(gè)圓形的密封板。密封板是固定在子腔薄膜的頂部中心, 由于大氣壓強(qiáng)使子腔壓縮到底部, 從而獲得微閥的閉合模式。這種新型的子腔結(jié)構(gòu)是通過沒有層結(jié)構(gòu)的釋放和在真空條件下派瑞林涂層薄膜的氣相沉積來實(shí)現(xiàn)的。通過減小密封板和閥座的重疊面積和濺射金屬金來減小靜摩擦力, 從而減小順流沖破壓力。此種結(jié)構(gòu)的微閥的順流沖破壓力為20～40 kPa, 在逆流壓力為270 kPa也不會(huì)出現(xiàn)可見的泄露現(xiàn)象。