干擾效應(yīng)。    干擾效應(yīng)也稱基體效應(yīng)，又稱共存元素、第三元素或伴隨物效應(yīng)，指的是在樣品中除了分析物外所有其他成分的影響，在光譜分析中能引起譜線的強度變化，導(dǎo)致分析結(jié)果產(chǎn)生一些誤差，這種干擾效應(yīng)是光譜分析中需要高度重視的一個問題。

分析試樣和標(biāo)樣影響。    在實際工作中，分析試樣和標(biāo)樣的冶煉過程和物理狀態(tài)存在一定的差異，所以導(dǎo)致校準(zhǔn)曲線經(jīng)常出現(xiàn)變化，一般情況下標(biāo)樣大多處于鍛造和軋制狀態(tài)，分析樣品大多處于澆鑄狀態(tài)，為有效防止試樣的冶金狀態(tài)變化影響檢測分析的結(jié)果，經(jīng)常使用的控制試樣要保證與分析試樣的冶金過程和物理狀態(tài)保持一致，對試樣的分析結(jié)果進行準(zhǔn)確的控制。

其它因素影響。    光電光譜檢測分析存在的誤差在所難免，要正確的認(rèn)識誤差，查找誤差存在的原因，采取有效的措施消除誤差。光譜檢測分析誤差除受上面幾種因素的影響外，還有以下幾種因素的影響：

1.人的因素：    操作者的質(zhì)量意識、責(zé)任意識、操作技術(shù)、水平高低、熟練程度等都會影響檢測的效果；

2.設(shè)備因素：    比如設(shè)備的狀態(tài)是否優(yōu)良、是否定期檢測和維護，光源性能穩(wěn)定性如何，氬氣供氣系統(tǒng)是否穩(wěn)定，試樣加工設(shè)備狀況是否正常、是否對加工設(shè)備進行定期維護保養(yǎng)等，都會一定程度上影響檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性。

3.樣品試樣因素：比如待測試樣成分是否均勻，是否具有試樣的代表性，熱處理狀態(tài)和組織結(jié)構(gòu)狀態(tài)是否正常，標(biāo)準(zhǔn)試樣的成分和控制試樣的成分是否均勻，成分含量的標(biāo)準(zhǔn)值是否可靠，組織結(jié)構(gòu)是否統(tǒng)一、磨制樣品方法是否規(guī)范、效果是否有效等等，都是影響其檢測效果的關(guān)鍵因素。

4.分析方法因素：在分析方法上，分析曲線制作及擬合程度是否達標(biāo)，標(biāo)準(zhǔn)化過程及效果是否，控樣選擇是否規(guī)范，定值是否嚴(yán)格等等，都一定程度上影響著檢測效果。

5.環(huán)境因素：比如檢測所在分析室的溫度、濕度是否正常，受否受電磁干擾的影響，所處環(huán)境是否清潔衛(wèi)生，是否具備檢測要求的條件穩(wěn)定的操作環(huán)境，只有有了良好的檢測環(huán)境，才能為檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性提供保障。

直讀光譜實驗室安裝條件要達標(biāo)

① 實驗室內(nèi)的環(huán)境溫度要控制在10-30℃，相對濕度控制在20%-80%，確保無腐蝕性氣體。    

② 氬氣的供給純度要達到99.999%以上，不純氬氣中雜質(zhì)影響激發(fā)效果，降低元素的光強值，分析結(jié)果出現(xiàn)偏差。

③ 輸入實驗室的電源要接在交流穩(wěn)壓器上，輸出電壓接到直讀光譜儀器上，電源電壓波動范圍控制在－5%～＋5%以內(nèi)。

做好樣品分析準(zhǔn)備。    設(shè)備和PC電源電壓選擇開關(guān)要設(shè)置適當(dāng)?shù)妮斎腚妷?，過濾量要在三分之一，氬氣壓力設(shè)置為0.5MPa。光譜儀打開后少穩(wěn)定一個小時。激發(fā)試樣看激發(fā)點是否正常，做程序修正，觀察數(shù)據(jù)穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。根據(jù)情況決定是不是要做光譜校正和標(biāo)準(zhǔn)化。

正確進行樣品分析。    

認(rèn)真制備試樣  樣品切割和磨樣處理后，激發(fā)面能密封住激發(fā)孔，樣品表面清潔，無裂紋、砂眼、氣孔等缺陷，樣品和激發(fā)板不能漏氣。  

激發(fā)樣品 樣品制備好后在激發(fā)臺激發(fā)3次，刪除異常點，留三組數(shù)據(jù)取平均值。

做好直讀光譜儀的維護保養(yǎng)。    

要按時清潔儀器可見光透鏡和紫外光透鏡，定期檢查更換排氣瓶的水量，定期清潔空氣濾芯、更換濾芯。    

定期清潔火花臺，樣品激發(fā)的過程產(chǎn)生的金屬蒸氣一部分附在火花臺上，久而久之大量粉末沉積，降低兩電極之間的絕緣性能，影響激發(fā)效果。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進行分析時常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動時，兩條線對的譜線強度雖有變化，但強度比或相對強度能保持不變。

如R表示強度比即        

R=I1/I0

I1為分析線的強度，Io為內(nèi)標(biāo)線強度，表明I1和Io同時變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。

在光電直讀光譜分析時，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來解決。

光電法時，有時還用內(nèi)標(biāo)線來控制曝光量，稱為自動曝光，也就是樣品在曝光時，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達到某一預(yù)定的電壓時，自動截止曝光。此時分析線的積分電容器充電達到的電壓即代表分析線的強度I，并且亦即代表分析線的強度比R(因為R=I1/Io，而此時Io保持常數(shù))這個強度I或強度比R就由測光讀數(shù)所表示。

現(xiàn)在一般采用計時曝光法較為普遍。