金屬鈀及其合金具有很強(qiáng)的氫氣吸附能力和特殊的選擇滲透能力, 是理想的氫氣儲存和凈化材料 。目前, 通常使用整體鈀合金或鍍鈀等方法制造氫凈化設(shè)備。近年來 ,有研究者嘗試采用化學(xué)氣相沉積法制備鈀的薄膜或薄層材料 , 他們選用分解溫度很低的金屬有機(jī)化合物作為沉積鈀的源物質(zhì), 他們是:烯丙基[β-酮] Pd(Ⅱ)、Pd(η3 -C 3 H 5 )(η 5-C 5 H 5 )和 Pd(η3-C 3 H 5 )(CF 3 COCHCOCF 3 )等。采用化學(xué)氣相沉積法可以制備高純度的鈀薄膜 。

不銹鋼基材真空物理氣相沉積鍍工藝，生產(chǎn)“黃金卷”

這種鋼卷以不銹鋼為基材，通過PVD（真空物理氣相沉積鍍工藝）制造成所需顏色，該技術(shù)廣泛應(yīng)用于航空航天、電子、光學(xué)、機(jī)械、建筑、輕工、冶金、材料等領(lǐng)域，可制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導(dǎo)電、絕緣、光導(dǎo)、壓電、磁性、潤滑、超導(dǎo)等特性的膜層。日常生活中以手表的外殼、表帶為常見，另外就是家電、裝飾材料等。

當(dāng)考慮電子束蒸發(fā)技術(shù)時，該方法涉及純粹的物理過程，其中目標(biāo)充當(dāng)包含待沉積材料的蒸發(fā)源，該材料用作陰極。請注意，系統(tǒng)會根據(jù)電子束功率蒸發(fā)任何材料。通過在高真空下轟擊電子，在高蒸氣壓下加熱材料，并釋放出顆粒。然后，在原子尺寸釋放的粒子和氣體分子之間發(fā)生沖突，該粒子插入反應(yīng)器中，旨在通過產(chǎn)生等離子體來加速粒子。該等離子體穿過沉積室，在反應(yīng)器的中間位置更強(qiáng)。連續(xù)壓縮層被沉積，從而增加了沉積膜對基底的粘附力